| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| ·选题背景及意义 | 第12-14页 |
| ·国内外的研究现状 | 第14-16页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 氧化锌的性质及其场发射 | 第18-33页 |
| ·氧化锌的基本性质 | 第18-21页 |
| ·结构性质 | 第18-19页 |
| ·电学性质 | 第19-20页 |
| ·光学性质 | 第20-21页 |
| ·纳米材料及其性质 | 第21-24页 |
| ·纳米材料的特性 | 第21-23页 |
| ·小尺寸效应 | 第22页 |
| ·表面效应 | 第22页 |
| ·量子尺寸效应 | 第22-23页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第23页 |
| ·介电限域效应 | 第23页 |
| ·纳米氧化锌概述 | 第23-24页 |
| ·场致发射原理及应用 | 第24-33页 |
| ·经典理论的矛盾 | 第24-25页 |
| ·半导体致发射理论 | 第25-26页 |
| ·金属场致发射及 F-N 理论 | 第26-28页 |
| ·场发射表面电子特性 | 第28-31页 |
| ·场发射的应用 | 第31-33页 |
| 第三章 ZnO 纳米阵列的制备方法 | 第33-42页 |
| ·一维 ZnO 纳米材料的制备方法 | 第33-35页 |
| ·气相法沉积法 | 第33-34页 |
| ·固相沉积法 | 第34页 |
| ·液相沉积法 | 第34-35页 |
| ·ZnO 纳米线结构的水热生长 | 第35-40页 |
| ·水热法生长晶体的基本概念 | 第36-37页 |
| ·晶体的水热反应生长过程 | 第37-39页 |
| ·氧化锌纳米阵列的水热生长过程 | 第39-40页 |
| ·表征方法 | 第40-42页 |
| 第四章 水热法制备 ZnO 纳米线的工艺研究 | 第42-59页 |
| ·实验设计 | 第42页 |
| ·ZnO 籽晶层的制备 | 第42-50页 |
| ·Si 基片的清洗 | 第43页 |
| ·溅射法 | 第43-44页 |
| ·磁控溅射 | 第44-46页 |
| ·工艺参数的设定和实验步骤设计 | 第46-47页 |
| ·不同溅射时长对籽晶层厚度的影响 | 第47-50页 |
| ·水热法制备氧化锌纳米线阵列 | 第50-58页 |
| ·实验设计 | 第51-52页 |
| ·材料及设备 | 第51页 |
| ·实验过程 | 第51-52页 |
| ·结果讨论 | 第52-58页 |
| ·ZnO 纳米线阵列的形貌和结构特征 | 第53-56页 |
| ·六次甲基四胺、乙酸锌、氨水混合溶液中 ZnO 纳米阵列的形貌特征 | 第56-58页 |
| ·Al 掺杂对 ZnO 纳米线阵列形貌特征的影响 | 第58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 ZnO 纳米线的场发射性能研究 | 第59-72页 |
| ·实验装置及测试方法 | 第59-63页 |
| ·实验装置的设计 | 第59-61页 |
| ·实验测试过程 | 第61-63页 |
| ·不同生长时间的氧化锌纳米线场发射性能比较 | 第63-69页 |
| ·ZnO 纳米线发射最大值测定 | 第63-65页 |
| ·不同生长时间对 ZnO 纳米线阵列场发射的影响 | 第65-68页 |
| ·ZnO 纳米线场发射的稳定性测试 | 第68-69页 |
| ·Al 掺杂生长的 ZnO 纳米线场发射特性 | 第69-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 总结 | 第72-74页 |
| ·论文的总结 | 第72-73页 |
| ·存在的问题及建议 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第79-80页 |