| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 绪论 | 第10-21页 |
| ·研究背景 | 第10-12页 |
| ·晶体硅太阳能电池及产业化生产流程 | 第12-17页 |
| ·太阳电池工作原理 | 第12-13页 |
| ·晶体硅太阳电池的生产过程及原理 | 第13-17页 |
| ·太阳电池的电参数及相关原理 | 第17-19页 |
| ·本课题研究意义及内容 | 第19-21页 |
| 第Ⅰ部分 多晶硅太阳电池新型表面光学系统研制 | 第21-32页 |
| 第一章 多晶硅表面织构化的碱性腐蚀液研制及表征 | 第21-27页 |
| ·实验材料、设备及相关测试仪器 | 第21-22页 |
| ·实验 | 第22-24页 |
| ·碱性腐蚀织构化后多晶硅片的表面形貌表征 | 第24-27页 |
| ·多晶硅片碱性织构化后的扫描电子显微镜(SEM)图 | 第24-26页 |
| ·多晶硅片碱性织构化后的原子力显微镜(AFM)图 | 第26页 |
| ·多晶硅片碱性织构化后的表面反射率 | 第26-27页 |
| 第二章 多晶硅片表面双层SiNx膜的沉积及分析 | 第27-30页 |
| ·实验 | 第27-29页 |
| ·PECVD沉积双层SiN_x减反膜结果分析 | 第29-30页 |
| 第三章 碱性织构化多晶硅太阳电池性能分析 | 第30-32页 |
| ·碱性织构化后的多晶硅电池性能测试结果及数据分析 | 第30-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第Ⅱ部分 冶金硅太阳电池表面织构化 | 第32-38页 |
| 第一章 实验 | 第32-33页 |
| 第二章 结果与讨论 | 第33-38页 |
| ·冶金硅片酸性织构化后的表面形貌表征 | 第33-36页 |
| ·冶金硅片酸性织构化后的扫描电子显微镜(SEM)图 | 第33-35页 |
| ·冶金硅片酸性织构化后的原子力显微镜(AFM)图 | 第35-36页 |
| ·冶金硅片酸性织构化后的反射率 | 第36-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第Ⅲ部分 类单晶硅太阳电池表面织构化 | 第38-45页 |
| 第一章 实验 | 第38-39页 |
| 第二章 结果与讨论 | 第39-45页 |
| ·类单晶硅片碱性织构化后的测试结果及分析(方案1,碱腐蚀) | 第39-40页 |
| ·类单晶硅片碱性织构化后的表面形貌(SEM) | 第39页 |
| ·类单晶硅片碱性织构化后的反射率(方案1) | 第39-40页 |
| ·类单晶硅两步织构化后的测试结果及分析(方案2,先酸后碱腐蚀) | 第40-42页 |
| ·类单晶硅片表面织构化后的表面形貌(SEM) | 第40-41页 |
| ·类单晶硅片表面织构化后的反射率(方案2) | 第41-42页 |
| ·类单晶硅两步织构化后的测试结果及分析(方案3,先碱后酸腐蚀) | 第42-43页 |
| ·类单晶硅片织构化后的表面形貌(SEM) | 第42页 |
| ·类单晶硅片织构化后的反射率(方案3) | 第42-43页 |
| ·类单晶与常规多晶硅电池的量子效率测试及分析 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第Ⅳ部分 结论及存在问题和建议 | 第45-46页 |
| 第一章 结论 | 第45页 |
| 第二章 存在问题和建议 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 攻读硕士学位期间获得的学术成果 | 第50页 |
| 攻读硕士学位期间参加的科研课题及学术会议 | 第50页 |
