新型炭硅分子筛膜研制及氢气分离性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第1章 文献综述 | 第10-20页 |
| ·炭分子筛膜 | 第10-12页 |
| ·炭分子筛膜的发展概况 | 第10-11页 |
| ·炭分子筛膜的分类 | 第11页 |
| ·炭分子筛膜的制备 | 第11页 |
| ·杂化膜 | 第11-12页 |
| ·炭分子筛膜的杂化改性技术 | 第12-14页 |
| ·单一前驱体的改性 | 第12-13页 |
| ·两种聚合物同时作为前驱体 | 第13页 |
| ·掺杂无机粒子 | 第13-14页 |
| ·掺杂金属或金属盐 | 第14页 |
| ·影响杂化炭膜性能的因素 | 第14-16页 |
| ·炭化终温 | 第14-15页 |
| ·升温速率 | 第15页 |
| ·炭化氛围 | 第15-16页 |
| ·杂化炭分子筛膜在气体分离方面的应用 | 第16-17页 |
| ·气体分离机理 | 第16页 |
| ·氢气回收或提浓 | 第16-17页 |
| ·其他气体分离应用 | 第17页 |
| ·炭硅分子筛膜 | 第17-18页 |
| ·杂化炭分子筛膜的发展方向 | 第18页 |
| ·研究背景、目的及内容 | 第18-20页 |
| ·研究背景 | 第18页 |
| ·研究目的 | 第18-19页 |
| ·研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 试验部分 | 第20-27页 |
| ·试验仪器设备 | 第20页 |
| ·试验药品 | 第20-21页 |
| ·支撑体修饰层的制备 | 第21页 |
| ·炭硅分子筛膜的制备 | 第21-22页 |
| ·前驱体的选择 | 第21-22页 |
| ·炭硅膜的制备 | 第22页 |
| ·掺杂金属炭硅分子筛膜的制备 | 第22-23页 |
| ·表征和测试 | 第23-27页 |
| ·前驱体的表征 | 第23页 |
| ·膜的表征 | 第23-24页 |
| ·气体渗透测试 | 第24-27页 |
| 第3章 支撑体修饰层的制备及表征 | 第27-35页 |
| ·试验内容 | 第28页 |
| ·硅锆复合溶胶的制备 | 第28页 |
| ·支撑体修饰涂覆 | 第28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-33页 |
| ·溶胶修饰层的热稳定性分析 | 第28-29页 |
| ·烧结温度对微晶结构变化的影响 | 第29-30页 |
| ·涂膜次数对修饰层性能的影响 | 第30-32页 |
| ·修饰层的微观形貌 | 第32-33页 |
| ·支撑体修饰层的气体渗透测试 | 第33页 |
| ·小结 | 第33-35页 |
| 第4章 炭硅分子筛膜制备及氢气分离性能研究 | 第35-51页 |
| ·试验内容 | 第35-36页 |
| ·涂膜液的制备 | 第35页 |
| ·炭硅分子筛膜的制备 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-49页 |
| ·涂膜液前驱体的热稳定性分析 | 第36-37页 |
| ·炭硅膜结构性能分析 | 第37-43页 |
| ·炭硅膜气体渗透分离性能分析 | 第43-48页 |
| ·与其他硅源的炭硅分子筛膜的比较 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-51页 |
| 第5章 掺杂金属炭硅膜的制备及氢气分离性能研究 | 第51-59页 |
| ·试验内容 | 第51-52页 |
| ·涂膜液的制备 | 第51-52页 |
| ·炭硅分子筛膜的制备 | 第52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-57页 |
| ·C-Si-Pd 分子筛膜微晶结构分析 | 第52-53页 |
| ·C-Si-Ni 分子筛膜微晶结构分析 | 第53-54页 |
| ·氢气的渗透性能和分离性能 | 第54-55页 |
| ·微观形貌分析 | 第55-56页 |
| ·掺杂钯的炭硅膜微孔结构分析 | 第56-57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 导师简介 | 第67-68页 |
| 作者简介 | 第68-69页 |
| 学位论文数据集 | 第69页 |
