摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
第一章 绪论 | 第11-15页 |
·研究的背景和意义 | 第11-12页 |
·本研究的目的和内容 | 第12页 |
·本论文的结构安排及内容提要 | 第12-15页 |
第二章 文献综述 | 第15-35页 |
·引言 | 第15页 |
·硅纳米线阵列的制备 | 第15-21页 |
·化学气相沉积法(CVD) | 第16-17页 |
·金属辅助化学刻蚀法(MACE) | 第17-21页 |
·硅纳米线阵列的光吸收性质的研究 | 第21-24页 |
·硅纳米线阵列的光吸收性质的数值计算研究 | 第21-22页 |
·硅纳米线阵列的光吸收性质的实验研究 | 第22-24页 |
·硅纳米线的光伏应用 | 第24-30页 |
·基于硅纳米线阵列减反层的太阳能电池 | 第24-26页 |
·径向pn结硅纳米线太阳能电池 | 第26-28页 |
·轴向p-n结硅纳米线太阳能电池 | 第28-30页 |
·晶体硅的表面钝化的研究 | 第30-32页 |
·晶体硅的表面钝化技术 | 第30-32页 |
·黑硅的表面钝化研究 | 第32页 |
·本文研究方向的提出 | 第32-35页 |
第三章 实验方案及测试仪器 | 第35-43页 |
·实验方案 | 第35-36页 |
·掺磷发射极硅纳米线阵列太阳能电池的制备与表征 | 第35页 |
·硅纳米线阵列的模版法制备、形貌操控以及减反射性能的研究 | 第35-36页 |
·硅纳米线的钝化 | 第36页 |
·实验设备与测试仪器 | 第36-43页 |
·扫描电子显微镜 | 第36-37页 |
·透射电子显微镜 | 第37页 |
·紫外可见吸收光谱仪 | 第37-38页 |
·电流-电压特性曲线测试系统 | 第38-39页 |
·量子效率测试系统 | 第39页 |
·直流反应磁控溅射系统 | 第39-40页 |
·电容-电压特性曲线测试系统 | 第40-41页 |
·深能级瞬态谱测试系统(DLTS) | 第41-43页 |
第四章 掺磷发射极硅纳米线阵列太阳能电池的制备与表征 | 第43-53页 |
·引言 | 第43-44页 |
·实验 | 第44-46页 |
·硅纳米线阵列的制备 | 第44页 |
·硅纳米线太阳能电池的制备与表征 | 第44-46页 |
·硅纳米线阵列的制备与表征 | 第46-49页 |
·硅纳米线阵列的形成过程与形貌表征 | 第46-47页 |
·不同长度硅纳米线阵列的形貌表征 | 第47-48页 |
·不同长度硅纳米线阵列的减反射性能研究 | 第48-49页 |
·掺磷发射极硅纳米线太阳能电池的制备与表征 | 第49-51页 |
·硅纳米线太阳能电池的Ⅰ-Ⅴ特性 | 第49-50页 |
·硅纳米线太阳能电池的量子效率 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
第五章 硅纳米线阵列的模版法制备、形貌操控以及减反射性能的研究 | 第53-69页 |
·引言 | 第53页 |
·实验 | 第53-55页 |
·阳极氧化铝模版(AAO)辅助制备硅纳米线阵列 | 第53-54页 |
·硅纳米线阵列的形貌操控以及反射率的研究 | 第54-55页 |
·硅纳米线阵列的AAO模版法制备与形貌表征 | 第55-58页 |
·硅纳米线阵列的形貌操控以及减反射性能的研究 | 第58-66页 |
·不同长度硅纳米线阵列的制备以及减反射性能的研究 | 第58-60页 |
·不同填充率的硅纳米线阵列的制备以及减反射性能的研究 | 第60-63页 |
·硅-二氧化硅核壳纳米线阵列的制备以及减反射性能的研究 | 第63-65页 |
·优化结构下的最低反射率 | 第65-66页 |
·结论 | 第66-69页 |
第六章 氮化硅薄膜对硅纳米线阵列的钝化研究 | 第69-81页 |
·引言 | 第69页 |
·实验 | 第69-71页 |
·硅纳米线阵列的钝化效果研究 | 第69-70页 |
·钝化对硅纳米线阵列太阳电池性能的影响 | 第70-71页 |
·氮化硅薄膜/硅纳米线阵列的形貌表征 | 第71-73页 |
·氮化硅薄膜对硅纳米线阵列的钝化 | 第73-77页 |
·热处理对氮化硅薄膜钝化效果的影响 | 第73-75页 |
·氮化硅薄膜与硅纳米线阵列界面处深能级的研究 | 第75-77页 |
·氮化硅薄膜钝化前后电池性能的变化 | 第77-79页 |
·本章小结 | 第79-81页 |
第七章 结论 | 第81-83页 |
参考文献 | 第83-91页 |
致谢 | 第91-93页 |
个人简介 | 第93-95页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文与取得的其它成果 | 第95页 |