| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| ·选题背景及意义 | 第9-11页 |
| ·国内外研究动态 | 第11-12页 |
| ·电磁场数值计算方法 | 第12-13页 |
| ·论文的主要工作 | 第13-15页 |
| 第2章 电磁场屏蔽与VFTO空间场的基本理论 | 第15-20页 |
| ·电磁场屏蔽的基本理论 | 第15-16页 |
| ·VFTO及其空间场的产生机理 | 第16-17页 |
| ·VFTO空间场对二次设备作用的耦合途径分析 | 第17-19页 |
| ·VFTO对二次设备的传导耦合 | 第18页 |
| ·VFTO对二次设备空间辐射耦合 | 第18-19页 |
| ·本章小结 | 第19-20页 |
| 第3章 VFTO空间场下的孔缝耦合特性分析 | 第20-34页 |
| ·时域有限差分法基本原理 | 第20-24页 |
| ·时域有限差分方程 | 第20-23页 |
| ·数值稳定性及数值色散 | 第23页 |
| ·吸收边界条件 | 第23-24页 |
| ·XFDTD软件简介 | 第24-25页 |
| ·仿真模型的建立及激励源的设置 | 第25-26页 |
| ·不同形式的孔缝对开孔腔体内耦合场的影响 | 第26-31页 |
| ·不同形状的开孔对腔体内耦合场的影响 | 第26-27页 |
| ·不同尺寸的矩形开孔对耦合场的影响 | 第27-28页 |
| ·缝隙阵间距的变化对耦合场的影响 | 第28-30页 |
| ·相同面积的孔阵对腔体内耦合场的影响 | 第30-31页 |
| ·对实际二次设备外壳内耦合场的时域分析 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 VFTO空间场下的微带线路耦合特性研究 | 第34-47页 |
| ·存在介质板时腔体耦合特性分析 | 第34-37页 |
| ·介质板与开孔的距离的改变对耦合场的影响 | 第34-36页 |
| ·介质板尺寸的变化对耦合特性的影响 | 第36-37页 |
| ·VFTO空间场下微带线端口电压响应 | 第37-42页 |
| ·自由空间中微带线端口电压响应 | 第37-39页 |
| ·屏蔽腔体中微带线端口电压响应 | 第39-42页 |
| ·VFTO空间场对实际二次设备中电路板上微带线的影响 | 第42-44页 |
| ·电磁波垂直极化沿+Z方向入射情形 | 第42-43页 |
| ·电磁波水平极化沿+Z方向入射情形 | 第43-44页 |
| ·自由空间中的短线缆耦合对微带线终端电阻电压的影响 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 VFTO空间电磁骚扰的真型平台测试研究 | 第47-53页 |
| ·现场测试方法 | 第47-49页 |
| ·测试结果及其分析 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第6章 结论与展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和参加的科研项目 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |