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激光在原子发射光谱分析中的应用研究

摘要第1-7页
Abstract第7-10页
第1章 绪论第10-17页
   ·概述第10-11页
   ·激光诱导击穿光谱技术第11-13页
   ·国内外研究现状及存在的问题第13-15页
   ·本论文的主要内容第15-17页
第2章 光谱分析原理第17-34页
   ·发射光谱原理第17-22页
     ·发射光谱的产生第17-18页
     ·等离子体的光谱发射机制第18-19页
     ·谱线的强度特性第19-20页
     ·谱线的宽度特性第20-22页
   ·激光等离子体发射光谱技术第22-25页
     ·气体中的等离子体击穿第22-23页
     ·激光等离子体的局部热平衡第23页
     ·激光等离子体形成过程及光谱发射第23-24页
     ·激发温度的计算第24-25页
   ·光谱分析原理第25-30页
     ·乳剂特性曲线第25-27页
     ·灵敏度第27-28页
     ·乳剂特性曲线的制作第28-29页
     ·暗室处理第29-30页
   ·定量分析的基本原理第30-34页
     ·内标准法第31-32页
     ·摄谱法定量分析方法——三标准试样法第32页
     ·分析精密度第32-34页
第3章 实验及结果分析第34-54页
   ·实验仪器及设备第34-37页
     ·XeCl 准分子激光器第34-35页
     ·HR4000 光谱仪第35页
     ·光栅摄谱仪第35-37页
     ·交直流电弧发生器第37页
   ·电弧激发纯铜等离子体的温度测量第37-41页
     ·电弧等离子体激发温度计算第38-39页
     ·温度随时间变化情况第39-41页
   ·激光等离子体光谱分析第41-54页
     ·乳剂特性曲线的制作第41-43页
     ·激光激发纯铜标准样品第43-46页
     ·定量分析工作曲线第46-49页
     ·谱线线形第49-51页
     ·测量结果分析第51-54页
结论第54-55页
参考文献第55-59页
攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果第59-60页
致谢第60-61页

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