| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-24页 |
| ·概述 | 第8-9页 |
| ·氧化锌纳米阵列及其应用 | 第9-20页 |
| ·氧化锌的结构与性质 | 第9-11页 |
| ·氧化锌的生长习性及形貌 | 第11-13页 |
| ·氧化锌纳米棒阵列的特性及制备方法 | 第13-16页 |
| ·氧化锌纳米阵列的应用 | 第16-20页 |
| ·普鲁士蓝及其衍生物的性质及应用 | 第20-22页 |
| ·普鲁士蓝及其衍生物的结构与性质 | 第20-21页 |
| ·普鲁士蓝及其衍生物修饰电极及其应用 | 第21-22页 |
| ·研究内容和方法 | 第22-24页 |
| ·硅基铝膜的阳极氧化 | 第22页 |
| ·低温水热法合成 ZnO 纳米棒 | 第22页 |
| ·铁氰化铜(CuHCF) 修饰电极的研制与电化学表征 | 第22-24页 |
| 2 硅基氧化铝膜的制备与表征 | 第24-35页 |
| ·引言 | 第24-25页 |
| ·实验材料与药品配制 | 第25-26页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第25-26页 |
| ·溶液的配备 | 第26页 |
| ·实验方法 | 第26-27页 |
| ·硅基超薄多孔阳极氧化铝的制备 | 第26-27页 |
| ·硅基超薄多孔阳极氧化铝的表征 | 第27页 |
| ·结果与分析 | 第27-34页 |
| ·实验结果与分析 | 第27-29页 |
| ·Al 阳极氧化过程的机理分析 | 第29-31页 |
| ·多孔阳极氧化铝的结构和成分 | 第31-33页 |
| ·硅基底上阳极氧化铝膜的后处理 | 第33-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 3 ZnO 纳米棒的研制 | 第35-40页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第35-36页 |
| ·实验方法 | 第36-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-38页 |
| ·ZnO 纳米棒的形貌 | 第37-38页 |
| ·ZnO 纳米棒的形成机理 | 第38页 |
| ·小结 | 第38-40页 |
| 4 铁氰化铜修饰电极的制备与原位电化学表征 | 第40-51页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验仪器、试剂及溶液的配备 | 第40-41页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第40-41页 |
| ·溶液的配备 | 第41页 |
| ·实验方法 | 第41-43页 |
| ·Au 电极在亚铁氰化钾溶液中的参照实验 | 第41-42页 |
| ·Au 电极修饰亚铁氰化铜实验操作 | 第42页 |
| ·Pt 丝电极电化学修饰铁氰化铜实验操作 | 第42页 |
| ·Si 基 Al 膜电化学修饰铁氰化铜实验操作 | 第42-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-50页 |
| ·铁氰化铜修饰层的形成 | 第43页 |
| ·修饰电极的电化学特性 | 第43-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 5 结论与展望 | 第51-53页 |
| ·结论 | 第51页 |
| ·展望 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 附录 | 第60页 |
| A. 作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第60页 |
| B. 作者在攻读学位期间取得的科研成果目录 | 第60页 |