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芯片内光波导环形谐振腔谐振特性研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第一章 绪论第8-14页
   ·课题研究背景及意义第8-9页
   ·环形谐振腔国内外发展现状第9-13页
   ·本人主要研究工作第13-14页
第二章 光波导环形谐振腔基本理论分析第14-40页
   ·光波导基本理论分析第14-23页
     ·光的色散、散射和吸收第14-16页
     ·波导的基本几何光学理论第16-21页
     ·耦合模基本理论第21-23页
   ·波导的损耗第23-26页
     ·损耗型波导的基本参数第24页
     ·波导的吸收损耗第24-25页
     ·波导的辐射损耗第25-26页
   ·环形谐振腔基本理论分析第26-32页
     ·环形谐振腔的基本工作原理及结构第26-29页
     ·环形谐振腔的主要性能指标第29-31页
     ·环形谐振腔的基本用途第31-32页
   ·硅基光波导与单模光纤的耦合问题第32-34页
     ·端面直接耦合第32-33页
     ·光栅垂直耦合第33-34页
   ·光栅耦合器基本结构及原理第34-39页
     ·多缝衍射第35-36页
     ·衍射光栅的主要性能第36-37页
     ·布拉格条件第37-38页
     ·衍射光栅对光强的调控第38-39页
   ·本章小结第39-40页
第三章 环形谐振腔光学性能仿真及系统版图设计第40-55页
   ·光束传输法(BPM)第40-43页
     ·BPM 的基本原理第40-41页
     ·BPM 对光波导的仿真模拟第41-43页
   ·时域有限差分方法(FDTD)仿真体系第43-49页
     ·初始条件的设置第43-44页
     ·环形谐振腔耦合系统重要参数数值仿真分析第44-49页
   ·光栅耦合器的数值仿真其设计第49-52页
     ·光栅刻蚀深度(槽深)第49-50页
     ·光栅周期第50-51页
     ·单模光纤入射角度第51-52页
   ·芯片结构总体版图设计第52-53页
   ·本章小结第53-55页
第四章 环形谐振腔结构系统芯片的制备第55-65页
   ·SOI 基片的制备第55-56页
   ·环形谐振腔关键制备工艺第56-64页
     ·光刻技术第57-58页
     ·磁控溅射工艺第58-59页
     ·电子束曝光工艺第59-63页
     ·感应耦合等离子体刻蚀工艺第63-64页
   ·本章小结第64-65页
第五章 环形谐振腔结构芯片性能测试第65-76页
   ·环形谐振腔结构的测试第65-69页
   ·测试结果第69-72页
   ·一种基于光波导微环谐振腔的全光逻辑门第72-75页
   ·本章小结第75-76页
第六章 总结与展望第76-78页
   ·论文主要研究工作及创新性第76-77页
   ·工作展望第77-78页
参考文献第78-84页
攻读硕士学位期间发表的学术论文及所取得的研究成果第84-85页
致谢第85页

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