| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 光学镀膜材料 | 第7-16页 |
| ·金属镀膜材料 | 第7-10页 |
| ·介质和半导体镀膜材料 | 第10-14页 |
| ·金属膜与介质膜的比较 | 第14-16页 |
| 第二章 真空镀膜技术 | 第16-27页 |
| ·前言 | 第16-17页 |
| ·真空镀膜技术 | 第17-27页 |
| 第三章 膜系理论设计 | 第27-36页 |
| ·膜系设计的发展 | 第27页 |
| ·增透膜的原理 | 第27-29页 |
| ·菲涅尔公式 | 第29-32页 |
| ·单层介质膜的反射率计算 | 第32-35页 |
| ·单层增透膜的设计 | 第35-36页 |
| 第四章 实验部分 | 第36-52页 |
| ·基片的加工 | 第36-39页 |
| ·镀膜材料的制备 | 第39-40页 |
| ·真空镀制单层增透膜 | 第40-42页 |
| ·薄膜样品性能研究 | 第42-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55页 |