低压ZnO压敏陶瓷增长晶粒法制备工艺及性能研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-28页 |
| ·引言 | 第8-12页 |
| ·压敏陶瓷的发展过程 | 第12-13页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷概述 | 第13-16页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷分类 | 第13-14页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷的应用 | 第14-15页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷的现状及发展趋势 | 第15-16页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷低压化理论 | 第16-26页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷的主要电学参数 | 第16-19页 |
| ·压敏陶瓷主晶相ZnO的理化性质 | 第19-23页 |
| ·压敏陶瓷压敏机理阐释的发展过程 | 第23-25页 |
| ·ZnO 压敏陶瓷的低压化途径 | 第25-26页 |
| ·论文选题依据、研究内容及目的 | 第26-28页 |
| ·论文选题依据 | 第26-27页 |
| ·论文研究内容 | 第27页 |
| ·论文研究目的 | 第27-28页 |
| 第二章 籽晶制备及评价 | 第28-34页 |
| ·实验原料及配方 | 第28页 |
| ·实验原料 | 第28页 |
| ·实验配方 | 第28页 |
| ·实验设备 | 第28-29页 |
| ·籽晶制备工艺流程 | 第29-30页 |
| ·籽晶制备工艺流程图 | 第29页 |
| ·籽晶制备工艺流程说明 | 第29-30页 |
| ·籽晶评价 | 第30-33页 |
| ·籽晶制备过程中实验现象 | 第30-31页 |
| ·籽晶的光学显微镜观察 | 第31-32页 |
| ·籽晶的XRD分析 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 压敏陶瓷制备工艺及性能优选 | 第34-49页 |
| ·实验原料及配方 | 第34-36页 |
| ·实验原料 | 第34页 |
| ·实验配方 | 第34-36页 |
| ·实验设备 | 第36页 |
| ·压敏陶瓷制备工艺流程 | 第36-39页 |
| ·压敏陶瓷制备工艺流程图 | 第37页 |
| ·压敏陶瓷制备工艺流程说明 | 第37-39页 |
| ·正交试验方案确定 | 第39-46页 |
| ·正交试验结果及处理 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 低压化机理的微观探究及印证 | 第49-64页 |
| ·晶界层的能谱测试分析 | 第49-54页 |
| ·晶粒平均尺寸的扫描电镜测试分析结果 | 第54-57页 |
| ·晶粒长大理论简述 | 第57-59页 |
| ·蒸发-凝聚传质 | 第58页 |
| ·扩散传质 | 第58页 |
| ·流动传质 | 第58页 |
| ·溶解-沉积传质 | 第58-59页 |
| ·二次再结晶 | 第59页 |
| ·低压化效果与晶粒平均尺寸的关系探讨 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间发表论文 | 第72-73页 |
| 附录B 陶瓷分类表 | 第73页 |
