制图外延法自组装有序纳米微结构的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·课题背景 | 第9-14页 |
| ·分子自组装技术 | 第9页 |
| ·嵌段共聚物自组装技术 | 第9-12页 |
| ·制图外延法自组装有序纳米微结构 | 第12-14页 |
| ·本论文的研究内容 | 第14-15页 |
| 第2章 制图外延法自组装方法的工艺流程 | 第15-22页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·带有微米级地形图案的基片的制备 | 第16-18页 |
| ·AFM 探针刻蚀技术制备基片 | 第16-18页 |
| ·光刻技术制备基片 | 第18页 |
| ·实验样品的制备方法 | 第18-19页 |
| ·浇铸成膜 | 第18-19页 |
| ·施加外场 | 第19页 |
| ·AFM 扫描成像 | 第19-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 溶剂挥发速度对自组装纳米微结构的影响 | 第22-29页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·实验部分 | 第22-23页 |
| ·原料及设备 | 第22页 |
| ·样品制备 | 第22页 |
| ·AFM 实验 | 第22-23页 |
| ·结果与讨论 | 第23-27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第4章 溶剂退火对自组装纳米微结构形态的影响 | 第29-36页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·原料及设备 | 第29页 |
| ·样品制备 | 第29-30页 |
| ·AFM 实验 | 第30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第5章 制图外延法自组装微米/纳米复合结构 | 第36-43页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验部分 | 第36-37页 |
| ·原料及设备 | 第36页 |
| ·样品制备 | 第36-37页 |
| ·AFM 实验 | 第37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-42页 |
| ·制图外延法自组装微米/纳米复合结构 | 第37-40页 |
| ·SEBS 嵌段共聚物薄膜的自愈合现象 | 第40-41页 |
| ·多种因素影响下的特殊自组装纳米微结构 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第47-49页 |
| 致谢 | 第49页 |
