溅射法PST薄膜的诱导取向制备及介电性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 引言 | 第10-12页 |
| 第一章 文献综述 | 第12-32页 |
| ·微波可调材料及其应用 | 第12-20页 |
| ·铁电材料概述 | 第12-14页 |
| ·微波可调原理及其理论研究 | 第14-18页 |
| ·微波可调材料的应用研究背景 | 第18-19页 |
| ·微波可调器什对材料的要求 | 第19-20页 |
| ·可调薄膜材料的研究现状 | 第20-24页 |
| ·钛酸锶(STO) | 第21-22页 |
| ·钛酸锶钡(BST) | 第22-24页 |
| ·薄膜材料改性方法研究 | 第24-26页 |
| ·掺杂 | 第25页 |
| ·缓冲层 | 第25-26页 |
| ·外延或择优取向 | 第26页 |
| ·取向薄膜的制备研究现状 | 第26-27页 |
| ·关于PST薄膜的研究 | 第27-30页 |
| ·成分配比与掺杂改性 | 第28-29页 |
| ·取向或外延制备 | 第29-30页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第30-32页 |
| 第二章 实验 | 第32-42页 |
| ·实验原料与仪器 | 第32-34页 |
| ·实验原料 | 第32页 |
| ·实验设备与仪器 | 第32-33页 |
| ·测试仪器 | 第33-34页 |
| ·PT诱导层的制备 | 第34-37页 |
| ·基片清洗工艺 | 第34-35页 |
| ·Tb掺杂PT溶胶的配制 | 第35-36页 |
| ·取向PT薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·PST薄膜样品的制备 | 第37-40页 |
| ·PST溅射靶材的制备 | 第37-38页 |
| ·PST薄膜的制备 | 第38-40页 |
| ·薄膜的结构与性能测试 | 第40-42页 |
| ·XRD结构测试 | 第40页 |
| ·SEM形貌测试 | 第40页 |
| ·介电性能的测试 | 第40-42页 |
| 第三章 诱导层诱导取向PST薄膜形成与制备研究 | 第42-64页 |
| ·PT诱导层的形成与制备 | 第42-47页 |
| ·诱导取向制备PST薄膜的形成 | 第47-50页 |
| ·热处理对取向PST薄膜结晶性能的影响 | 第50-56页 |
| ·溅射功率对取向PST薄膜结晶性能的影响 | 第56-58页 |
| ·诱导层厚度对取向PST结晶性能的影响 | 第58-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第四章 诱导取向制备PST薄膜的介电性能研究 | 第64-78页 |
| ·热处理温度对取向PST薄膜介电性能的影响 | 第64-67页 |
| ·溅射功率对取向PST薄膜介电性能的影响 | 第67-72页 |
| ·不同溅射功率制备取向PST薄膜的电容与损耗 | 第68-69页 |
| ·不同溅射功率制备取向PST薄膜的可调性 | 第69-72页 |
| ·诱导层厚度对取向PST薄膜的介电性能的影响 | 第72-77页 |
| ·不同诱导层数制备取向PST薄膜的电容与损耗 | 第72-74页 |
| ·不同诱导层数制备取向PST薄膜的可调性 | 第74-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 结论 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88页 |
