金属配位分子印迹膜制备及其膜色谱的应用研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·前言 | 第10页 |
| ·分子印迹技术 | 第10-13页 |
| ·分子印迹技术的基本原理 | 第11-12页 |
| ·共价结合法 | 第12页 |
| ·非共价结合法 | 第12-13页 |
| ·金属配位法 | 第13页 |
| ·分子印迹膜 | 第13-20页 |
| ·分子印迹膜的种类 | 第14-15页 |
| ·分子印迹膜的制备方法 | 第15-18页 |
| ·分子印迹膜的传质机理 | 第18页 |
| ·分子印迹膜的应用 | 第18-20页 |
| ·膜色谱 | 第20-21页 |
| ·本论文研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 PVDF基金属配位印迹膜的制备和优化 | 第23-34页 |
| ·前言 | 第23-24页 |
| ·实验部分 | 第24-27页 |
| ·实验原料与试剂 | 第24页 |
| ·实验设备与仪器 | 第24-25页 |
| ·PVDF基膜的制备 | 第25页 |
| ·金属配位分子印迹膜的制备 | 第25页 |
| ·膜的通量、截留性能及改性率 | 第25-26页 |
| ·印迹膜的结合性能 | 第26-27页 |
| ·印迹膜的接触角 | 第27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-33页 |
| ·膜的纯水通量和截留 | 第27页 |
| ·结合量测定的校正 | 第27-28页 |
| ·涂覆时间的优化 | 第28-30页 |
| ·涂覆时间对改性率的影响 | 第28-29页 |
| ·涂覆时间对结合性能的影响 | 第29-30页 |
| ·膜的接触角 | 第30页 |
| ·吸附液浓度的影响 | 第30-31页 |
| ·洗脱条件的优化 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 茶碱与铜离子配位分子印迹膜的制备及研究 | 第34-48页 |
| ·前言 | 第34-35页 |
| ·实验部分 | 第35-38页 |
| ·主要试剂与仪器 | 第35页 |
| ·金属配位分子印迹膜的制备 | 第35-36页 |
| ·印迹膜的结合容量和结合选择性 | 第36-37页 |
| ·印迹膜的渗透性能 | 第37页 |
| ·接触角测定 | 第37-38页 |
| ·扫描电镜图像分析 | 第38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-46页 |
| ·制备条件的优化 | 第38-40页 |
| ·扫描电镜图像分析 | 第40-41页 |
| ·印迹膜的动态接触角 | 第41页 |
| ·印迹膜的吸附动力学 | 第41-42页 |
| ·配位作用对结合性能的影响 | 第42-43页 |
| ·不同印迹膜与非印迹膜结合性能比较 | 第43页 |
| ·印迹膜的结合选择性 | 第43-44页 |
| ·不同金属配体的影响 | 第44-45页 |
| ·印迹膜的渗透性能 | 第45-46页 |
| ·料液浓度对渗透性能的影响 | 第45-46页 |
| ·料液流速对渗透性能的影响 | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 茶碱与铜离子配位分子印迹膜色谱性能表征 | 第48-57页 |
| ·前言 | 第48页 |
| ·实验部分 | 第48-50页 |
| ·主要试剂与仪器 | 第48页 |
| ·茶碱铜离子配位分子印迹膜的制备 | 第48-49页 |
| ·HPLC测试条件 | 第49页 |
| ·膜色谱过滤实验 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-55页 |
| ·HPLC标准曲线 | 第50页 |
| ·PVDF基膜过滤结果 | 第50-51页 |
| ·循环过滤时间对分离效果的影响 | 第51-53页 |
| ·壳程与管程进液循环过滤结果比较 | 第53-55页 |
| ·流速对分离性能的影响 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论与展望 | 第57-59页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| ·展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 个人简历以及论文发表情况 | 第66页 |
