| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 引言 | 第12-22页 |
| ·关于铪 | 第12-13页 |
| ·~(182)Hf及其应用 | 第13-15页 |
| ·~(182)Hf的测量 | 第15-18页 |
| ·~(182)Hf的发现及其半衰期测量 | 第15-16页 |
| ·~(182)Hf衰变纲图的测量 | 第16-18页 |
| ·~(182)Hf的质谱研究现状 | 第18-20页 |
| ·铪及~(182)Hf的普通质谱测量 | 第18-19页 |
| ·~(182)Hf的AMS测量 | 第19-20页 |
| ·中国原子能科学研究院~(182)Hf的测量 | 第20-22页 |
| 第二章 AMS系统与测量过程 | 第22-39页 |
| ·普通质谱计及其局限 | 第22-23页 |
| ·AMS概述 | 第23-25页 |
| ·串列AMS测量技术 | 第25-31页 |
| ·离子源、注入器 | 第26-27页 |
| ·加速器 | 第27-29页 |
| ·高能分析与传输系统 | 第29-30页 |
| ·探测器 | 第30-31页 |
| ·AMS测量过程 | 第31-34页 |
| ·样品在离子源中的电离 | 第31-32页 |
| ·离子的加速与分子的瓦解 | 第32-33页 |
| ·高能分析与传输 | 第33页 |
| ·粒子的鉴别 | 第33-34页 |
| ·AMS技术的发展 | 第34-39页 |
| ·离子源的改进 | 第35页 |
| ·样品制备技术的发展 | 第35-36页 |
| ·探测技术的发展 | 第36-37页 |
| ·中国原子能科学研究院AMS测量核素情况 | 第37-39页 |
| 第三章 样品制备 | 第39-60页 |
| ·标准样品 | 第40-44页 |
| ·标样中~(182)Hf的生成 | 第40页 |
| ·~(182)Hf/~(180)Hf原子数比值的测定 | 第40-41页 |
| ·~(182)Hf系列标准样品的配置流程 | 第41-44页 |
| ·AMS样品化学形式选取的研究 | 第44-45页 |
| ·HfF_4样品的制备 | 第45-46页 |
| ·湿法制备HfF_4样品 | 第46-47页 |
| ·干法制取HfF_4样品流程的建立 | 第47-55页 |
| ·干法的实验背景、研究状况和原理 | 第47-50页 |
| ·反应装置 | 第50-52页 |
| ·所用试剂和仪器 | 第52页 |
| ·反应条件探索 | 第52-53页 |
| ·反应操作流程 | 第53页 |
| ·干法样品的测量 | 第53-54页 |
| ·实验总结 | 第54-55页 |
| ·样品保存 | 第55页 |
| ·化学分离流程 | 第55-60页 |
| ·分离流程一 | 第55-58页 |
| ·分离流程二 | 第58-60页 |
| 第四章 ~(182)Hf的AMS测量 | 第60-89页 |
| ·样品准备 | 第60-65页 |
| ·样品制备 | 第60页 |
| ·导电介质研究 | 第60-62页 |
| ·靶锥材料的选择 | 第62-64页 |
| ·样品的装靶 | 第64-65页 |
| ·实验设备及参数 | 第65-76页 |
| ·离子源 | 第66-68页 |
| ·AMS专用注入系统 | 第68-72页 |
| ·加速器 | 第72-73页 |
| ·分析磁铁和开关磁铁 | 第73页 |
| ·静电分析器 | 第73-74页 |
| ·探测器 | 第74-76页 |
| ·实验过程 | 第76-82页 |
| ·离子的引出及磁场刻度 | 第76-77页 |
| ·束流传输 | 第77-79页 |
| ·~(182)Hf的测量 | 第79-81页 |
| ·~(183)W和~(184)W的测量 | 第81-82页 |
| ·实验结果与讨论 | 第82-89页 |
| ·~(182)Hf的AMS测量效率 | 第82-86页 |
| ·~(182)Hf/Hf的测量结果 | 第86-89页 |
| 第五章 总结 | 第89-92页 |
| 参考文献 | 第92-97页 |
| 在学期间的研究成果 | 第97-99页 |
| 致谢 | 第99-101页 |
| 附录 | 第101-104页 |
| 附录一 干法氟化炉操作过程及控温曲线 | 第101-102页 |
| 附录二 ~(182)Hf测量时干扰离子情况 | 第102页 |
| 附录三 ~(182)Hf模拟传输时参数(BEAM程序计算) | 第102-104页 |