AM60B镁合金微弧氧化工艺研究
| 目录 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·镁合金的应用及表面处理现状 | 第10-16页 |
| ·镁及其合金的特性 | 第10-11页 |
| ·镁合金的应用现状 | 第11-12页 |
| ·镁合金应用面临的问题 | 第12-16页 |
| ·镁合金需要表面处理 | 第12-14页 |
| ·镁合金表面处理的研究现状 | 第14-16页 |
| ·镁合金微弧氧化处理 | 第16-17页 |
| ·镁合金传统表面处理方法的不足 | 第16页 |
| ·微弧氧化处理的优点 | 第16-17页 |
| ·微弧氧化技术的研究现状 | 第17-21页 |
| ·研究概况 | 第18页 |
| ·目前成熟的微弧氧化工艺简介 | 第18-20页 |
| ·微弧氧化的膜层制备方法 | 第20-21页 |
| ·论文的选题依据 | 第21-22页 |
| ·研究内容 | 第22-24页 |
| 第二章 试验设备及实验方法 | 第24-31页 |
| ·实验材料 | 第24页 |
| ·试样的制取 | 第24页 |
| ·实验设备 | 第24-27页 |
| ·实验方案 | 第27-31页 |
| ·前处理 | 第28页 |
| ·预处理 | 第28页 |
| ·溶液配制 | 第28页 |
| ·微弧氧化处理过程 | 第28-30页 |
| ·试样的测试分析 | 第30-31页 |
| ·膜层厚度测试 | 第30页 |
| ·表面及截面形貌分析 | 第30页 |
| ·膜层成分及结构分析 | 第30页 |
| ·电化学阻抗谱 | 第30页 |
| ·48h腐蚀率测试 | 第30-31页 |
| 第三章 镁合金微弧氧化的工艺参数优化 | 第31-44页 |
| ·前言 | 第31-32页 |
| ·工艺参数优化过程 | 第32-43页 |
| ·电解液组成成分含量优化 | 第32-35页 |
| ·实验 | 第32页 |
| ·结果及分析 | 第32-35页 |
| ·直观分析 | 第32-33页 |
| ·极差分析 | 第33-34页 |
| ·较优方案的选择 | 第34-35页 |
| ·微弧氧化电参数及处理时间的优化 | 第35-43页 |
| ·参数优化方法 | 第35页 |
| ·均匀设计法 | 第35-36页 |
| ·神经网络 | 第36-37页 |
| ·遗传算法 | 第37-38页 |
| ·应用与讨论 | 第38-43页 |
| ·本章结论 | 第43-44页 |
| 第四章 镁合金微弧氧化中局部烧蚀现象的研究 | 第44-52页 |
| ·前言 | 第44页 |
| ·现象描述 | 第44-45页 |
| ·试验 | 第45页 |
| ·烧蚀形成机理分析 | 第45-50页 |
| ·诱发作用机制 | 第46-47页 |
| ·电参数的影响 | 第47-49页 |
| ·电解液的影响 | 第49-50页 |
| ·其它影响因素 | 第50页 |
| ·本章结论 | 第50-52页 |
| 第五章 火花放电对镁合金微弧氧化膜层性能的影响 | 第52-61页 |
| ·前言 | 第52页 |
| ·试验 | 第52-53页 |
| ·结果与分析 | 第53-60页 |
| ·火花的形成机理 | 第53-54页 |
| ·火花放电与膜层的生长关系 | 第54-55页 |
| ·火花放电对膜层形貌的影响 | 第55-57页 |
| ·膜层的组成相分析 | 第57页 |
| ·膜层的组成成分分析 | 第57-59页 |
| ·火花放电对膜层耐蚀性的影响 | 第59-60页 |
| ·本章结论 | 第60-61页 |
| 第六章 微弧氧化膜层的结构、性能及成膜机理研究 | 第61-70页 |
| ·前言 | 第61页 |
| ·微弧氧化膜层的结构与性能 | 第61-66页 |
| ·微弧氧化膜层的表面形貌 | 第61-62页 |
| ·微弧氧化膜层的截面形貌 | 第62-63页 |
| ·微弧氧化膜层的组成物相分析 | 第63页 |
| ·微弧氧化膜层的组成元素分析 | 第63-66页 |
| ·微弧氧化的成膜机理 | 第66-69页 |
| ·本章结论 | 第69-70页 |
| 第七章 总结论 | 第70-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
