| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 非晶态合金的制备方法及性能概述 | 第8-12页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·非晶态合金的制备方法 | 第8-10页 |
| ·液态急冷法制备非晶态合金 | 第8-9页 |
| ·气相沉积法制备非晶态合金 | 第9-10页 |
| ·溶液离子镀制备非晶态合金 | 第10页 |
| ·非晶态合金的综合性能 | 第10-11页 |
| ·选题来源 | 第11-12页 |
| 第二章 电沉积方法制备非晶态合金 | 第12-19页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·电沉积理论基础 | 第12-16页 |
| ·电极反应原理 | 第12-13页 |
| ·络合物电镀 | 第13-16页 |
| ·络合原理 | 第13-14页 |
| ·金属离子的常见配位数和络合物空间结构 | 第14-15页 |
| ·多核络合物 | 第15-16页 |
| ·电沉积过程中的一些基本概念 | 第16-17页 |
| ·Faraday定律 | 第16页 |
| ·电流效率 | 第16页 |
| ·电导和离子淌度 | 第16页 |
| ·电解液的pH值 | 第16-17页 |
| ·金属电沉积的步骤和共沉积的类型 | 第17-19页 |
| ·金属电沉积步骤 | 第17页 |
| ·金属共沉积的类型 | 第17-19页 |
| 第三章 研究方法 | 第19-23页 |
| ·非晶态合金镀层的主要特征 | 第19页 |
| ·合金的研究方法 | 第19-23页 |
| ·XRD分析 | 第19-21页 |
| ·非晶态结构分析 | 第19-20页 |
| ·晶体结构分析 | 第20-21页 |
| ·仪器参数 | 第21页 |
| ·SEM分析表面形貌 | 第21-22页 |
| ·EDS分析镀层成份 | 第22页 |
| ·显微硬度试验 | 第22页 |
| ·磁性测量 | 第22-23页 |
| 第四章 Ni-W、Co-Ni-W合金的电沉积制备及结构分析 | 第23-34页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·Ni-W合金沉积机理及影响因素 | 第23-24页 |
| ·样品制备 | 第24-26页 |
| ·镀液制备 | 第24-25页 |
| ·实验装置 | 第25-26页 |
| ·基底制备 | 第26页 |
| ·样品分析 | 第26-30页 |
| ·XRD微结构分析 | 第26-28页 |
| ·AFM分析表面形貌 | 第28页 |
| ·SEM表面观察 | 第28-29页 |
| ·EDS成份分析 | 第29-30页 |
| ·沉积速率和电流效率 | 第30-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 第五章 Ni-W、Co-Ni-W合金力学性能及磁学性能分析 | 第34-40页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·合金硬度分析 | 第34-36页 |
| ·合金磁性分析 | 第36-39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 结论 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 致谢 | 第44页 |