铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜的制备和特性研究

摘要	第1-7页
ABSTRACT	第7-11页
第一章 引言	第11-26页
·智能材料及其应用	第11-13页
·铁磁形状记忆合金NI—MN—GA的结构及机理	第13-15页
·铁磁形状记忆合金Ni—Mn—Ga的结构	第13-14页
·Ni_2MnGa合金磁控形状记忆效应的机理	第14-15页
·NI—MN—GA块体材料的研究现状	第15-19页
·NI—MN—GA薄膜材料的研究现状	第19-23页
·NI-MN-GA薄膜的应用	第23-24页
·本文研究的目的、意义及内容	第24-26页
第二章 实验设备及分析测试技术	第26-36页
·实验设备	第26-31页
·微波ECRPSⅡ型等离子体全方位注入装置	第26-31页
·真空热处理设备	第31页
·分析测试设备及方法	第31-36页
·扫描电子显微镜(SEM)	第31页
·原子力显微镜(AFM)	第31-32页
·X射线衍射仪(XRD)	第32-33页
·振动样品磁强计(VSM)	第33-34页
·磁感生应变测量装置	第34-36页
第三章 薄膜制备技术	第36-43页
·靶材的制备	第36页
·基片的前期处理	第36-37页
·薄膜制备工艺流程	第37-41页
·薄膜制备的实验参数	第38-39页
·薄膜成分与影响因素分析	第39-41页
·膜厚测试	第41页
·薄膜生长机理	第41-43页
第四章 热处理对薄膜的影响	第43-55页
·热处理对薄膜成分的影响	第43-45页
·热处理对薄膜表面形貌的影响	第45-49页
·热处理对薄膜晶体结构的影响	第49-51页
·热处理对薄膜磁性能的影响	第51-52页
·薄膜磁致伸缩量的测量	第52-55页
第五章 结论与展望	第55-57页
参考文献	第57-61页
致谢	第61-62页
在读期间发表的论文	第62页