| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-28页 |
| ·介质阻挡放电概述 | 第10-16页 |
| ·类金刚石膜 | 第16-21页 |
| ·选题 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-28页 |
| 2 介质阻挡放电制备DLC膜的设备及DLC膜的表征方法 | 第28-32页 |
| ·介质阻挡放电制备DLC膜的设备 | 第28-29页 |
| ·DLC膜的表征 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-32页 |
| 3 C_2H_6介质阻挡放电制备DLC膜的实验研究 | 第32-44页 |
| ·结果及分析 | 第32-41页 |
| ·红外吸收谱 | 第33-34页 |
| ·硬度 | 第34页 |
| ·Raman谱 | 第34-38页 |
| ·折射率 | 第38页 |
| ·AFM表面形貌及表面粗糙度 | 第38页 |
| ·生长速率 | 第38-41页 |
| ·氢在DLC薄膜制备中作用的分析 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 4 CH_4+Ar(He)介质阻挡放电制备DLC膜的实验研究 | 第44-64页 |
| ·CH_4+Ar介质阻挡放电制备DLC膜的实验研究 | 第44-51页 |
| ·实验结果及分析 | 第44-48页 |
| ·Ar作用分析 | 第48-51页 |
| ·CH_4+He介质阻挡放电制备DLC膜的实验研究 | 第51-58页 |
| ·实验结果及分析 | 第51-58页 |
| ·He作用分析 | 第58页 |
| ·小结:Ar和He作用的比较 | 第58-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 5 介质阻挡放电等离子体中离子能量分析 | 第64-78页 |
| ·介质阻挡放电等离子体离子能量的理论分析 | 第64-66页 |
| ·百Pa量级气压下介质阻挡放电等离子体中离子能量与pd关系 | 第66-67页 |
| ·H_2介质阻挡放电中离子能量的计算与测量 | 第67页 |
| ·碰撞截面的讨论及击穿电压的测量 | 第67-72页 |
| ·离子能量的计算结果 | 第72-75页 |
| ·小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-78页 |
| 6 介质阻挡放电等离子体诊断 | 第78-93页 |
| ·介质阻拦放电功率及测量 | 第78-85页 |
| ·发射光谱测量及电子激发温度分析 | 第85-90页 |
| ·小结 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-93页 |
| 结论及展望 | 第93-95页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第95-96页 |
| 创新点 | 第96-97页 |
| 致谢 | 第97-98页 |
