SSCVD制备ZnO薄膜
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·ZnO的特性 | 第11-13页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第13-15页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第15-20页 |
| ·SSCVD制备ZnO薄膜的研究进展 | 第20-23页 |
| ·本论文研究的目的和意义 | 第23-24页 |
| 第二章 单源化学气相沉积原理及样品分析技术 | 第24-36页 |
| ·单源化学气相沉积(SSCVD)简介 | 第24-25页 |
| ·单源化学气相沉积(SSCVD)原理与技术 | 第25-27页 |
| ·ZnO薄膜的分析表征手段 | 第27-36页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第27-29页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第29-31页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第31-32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第32-34页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第34-36页 |
| 第三章 单源化学气相沉积法制备ZnO薄膜 | 第36-50页 |
| ·实验方法 | 第36-37页 |
| ·衬底的清洗 | 第37页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第37-50页 |
| ·源温度对ZnO薄膜的影响 | 第37-39页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜的影响 | 第39-43页 |
| ·非极性ZnO薄膜的晶体结构 | 第43-44页 |
| ·热处理对ZnO薄膜质量的影响 | 第44-50页 |
| ·XRD分析 | 第44-47页 |
| ·XPS研究 | 第47-50页 |
| 第四章 非极性ZnO薄膜的光学性质 | 第50-66页 |
| ·非极性ZnO薄膜光致发光 | 第50-64页 |
| ·光致发光原理 | 第50-52页 |
| ·热处理对ZnO薄膜光致发光性能的影响 | 第52-55页 |
| ·激发光源的选择 | 第52-53页 |
| ·热处理对非极性ZnO薄膜发光性能的影响 | 第53-55页 |
| ·非极性ZnO薄膜的光致发光特性 | 第55-61页 |
| ·近带边紫外发射机理 | 第55-61页 |
| ·非极性ZnO薄膜的光致发光特性 | 第61-64页 |
| ·非极性ZnO薄膜的变温光致发光谱 | 第61-62页 |
| ·非极性ZnO薄膜的室温光致发光谱 | 第62-64页 |
| ·非极性ZnO薄膜的透射谱 | 第64-66页 |
| 第五章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 硕士期间研究成果 | 第73页 |
