| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 1 绪论 | 第13-34页 |
| ·引言 | 第13-15页 |
| ·制备厚膜无源元件的技术特点和发展概况 | 第15-25页 |
| ·传统制备厚膜无源元件技术 | 第15-17页 |
| ·新兴发展的制备厚膜无源元件技术-----直写技术 | 第17-25页 |
| ·本课题的来源、方法、理论依据以及应用前景 | 第25-28页 |
| ·本课题的来源 | 第25页 |
| ·研究方法及内容 | 第25-26页 |
| ·理论依据 | 第26-27页 |
| ·激光微细熔覆快速制造技术的应用前景 | 第27-28页 |
| ·研究目标、技术路线、技术关键及创新 | 第28-33页 |
| ·研究目标 | 第28-29页 |
| ·技术路线 | 第29-31页 |
| ·技术关键 | 第31-32页 |
| ·本课题的创新点 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-34页 |
| 2 激光微细熔覆快速制造厚膜无源元件设备的设计及其制备 | 第34-45页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜无源元件的原理及可行性分析 | 第34-35页 |
| ·制造原理 | 第34-35页 |
| ·可行性分析 | 第35页 |
| ·设备的设计与制备 | 第35-44页 |
| ·设计思路 | 第35-41页 |
| ·设备结构及制造 | 第41-42页 |
| ·设备的性能指标 | 第42-43页 |
| ·采用Precision Spray 系统制备的实例 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 3 激光微细熔覆快速制造厚膜导带图形的研究 | 第45-71页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·试验材料和试验方法 | 第46-48页 |
| ·试验材料 | 第46-47页 |
| ·试验方法及其设备 | 第47-48页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜导带的影响因素 | 第48-56页 |
| ·导电浆料特性对厚膜导带质量的影响 | 第48-50页 |
| ·预置膜厚度对导带宽度、厚度和质量的影响 | 第50-51页 |
| ·激光加工参数对形成导带的宽度、厚度和质量的影响 | 第51-56页 |
| ·激光微细熔覆快速制造导线机理的研究 | 第56-61页 |
| ·导电浆料的热分析 | 第56-57页 |
| ·预置层和导线的微观形貌分析 | 第57-59页 |
| ·EDS 能谱分析 | 第59-61页 |
| ·导带成型机理和附着机理的研究 | 第61-64页 |
| ·导带的成型机理 | 第61-63页 |
| ·导带的附着机理 | 第63-64页 |
| ·导电机理的探讨 | 第64-65页 |
| ·导电性能的研究及其应用 | 第65-69页 |
| ·导带性能的研究 | 第65-67页 |
| ·激光微细熔覆快速制造导带的应用 | 第67-69页 |
| ·小结 | 第69-71页 |
| 4 激光微细熔覆快速制造厚膜电阻元件的研究 | 第71-114页 |
| ·前言 | 第71-72页 |
| ·试验材料和试验方法 | 第72-74页 |
| ·试验材料 | 第72-73页 |
| ·试验方法及设备 | 第73-74页 |
| ·影响激光微细熔覆快速制造标准厚膜电阻特性的因素 | 第74-77页 |
| ·方阻率 | 第74-75页 |
| ·几何特性 | 第75-76页 |
| ·材料 | 第76页 |
| ·制备工艺 | 第76页 |
| ·电阻和电极界面行为的影响 | 第76-77页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电阻工艺的研究 | 第77-91页 |
| ·电阻浆料的特性对电阻质量的影响 | 第77-79页 |
| ·激光加工参数对厚膜电阻的厚度、质量和性能的影响 | 第79-89页 |
| ·制备工艺对电阻膜质量的影响 | 第89-91页 |
| ·不同的端头材料对电阻的质量的影响 | 第91页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电阻机理的研究 | 第91-99页 |
| ·电阻浆料的热分析 | 第91-92页 |
| ·预置层、电阻膜以及电阻膜和端头界面的微观形貌 | 第92-95页 |
| ·预置层、电阻膜以及电阻膜和端头界面的EDS 分析 | 第95-99页 |
| ·厚膜电阻的成型机理和附着机理的研究 | 第99-101页 |
| ·导电机理的探讨 | 第101-105页 |
| ·厚膜电阻的性能以及应用的研究 | 第105-112页 |
| ·电阻元件性能的研究 | 第105-112页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电阻元件的应用 | 第112页 |
| ·小结 | 第112-114页 |
| 5 激光微细熔覆快速制造厚膜电容元件的研究 | 第114-145页 |
| ·引言 | 第114-115页 |
| ·试验材料和试验方法 | 第115-117页 |
| ·试验材料 | 第115-116页 |
| ·试验方法及设备 | 第116-117页 |
| ·影响激光微细熔覆快速制造厚膜电容器特性的因素 | 第117-118页 |
| ·介质膜的厚度 | 第117页 |
| ·介质膜的致密性（针孔的数量） | 第117页 |
| ·介质层的有效面积和层数 | 第117-118页 |
| ·介电常数 | 第118页 |
| ·电极数和电极叠加面积 | 第118页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电容器工艺的研究 | 第118-126页 |
| ·介质浆料的特性对电容器质量的影响 | 第118-119页 |
| ·激光加工参数对形成介质膜厚度和质量的影响 | 第119-126页 |
| ·不同的电极材料对介质膜质量影响 | 第126页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电容机理的研究 | 第126-135页 |
| ·电容介质浆料的热分析 | 第126-127页 |
| ·介质膜以及介质膜和电极界面的微观形貌 | 第127-129页 |
| ·介质膜以及介质膜和电极界面的EDS 分析 | 第129-135页 |
| ·厚膜电容的成型机理和附着机理的研究 | 第135-137页 |
| ·电容器的工作原理 | 第137-138页 |
| ·厚膜电容的性能以及应用的研究 | 第138-143页 |
| ·厚膜电容的性能研究 | 第138-142页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电容元件的应用 | 第142-143页 |
| ·小结 | 第143-145页 |
| 6 激光微细熔覆快速制造厚膜电感元件的研究 | 第145-164页 |
| ·引言 | 第145-147页 |
| ·试验材料和试验方法 | 第147-148页 |
| ·试验材料 | 第147-148页 |
| ·试验方法及其设备 | 第148页 |
| ·影响激光微细熔覆快速制造厚膜电感特性的因素 | 第148-149页 |
| ·基片材料的选择 | 第148页 |
| ·匝数 | 第148页 |
| ·导体膜的厚度和宽度 | 第148-149页 |
| ·磁性介质膜的厚度 | 第149页 |
| ·电感器的螺旋走向和形状 | 第149页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电感器工艺的研究 | 第149-156页 |
| ·磁性介质浆料的特性对所制备电感器质量的影响 | 第149-150页 |
| ·预置膜厚度对磁性介质膜厚度的影响 | 第150页 |
| ·激光加工参数对磁性介质膜厚度和质量的影响 | 第150-155页 |
| ·磁性介质膜上制备导线参数研究 | 第155-156页 |
| ·微观分析和能谱分析 | 第156-158页 |
| ·磁性介质膜的微观分析 | 第156-157页 |
| ·磁性介质膜的X 射线探针分析 | 第157-158页 |
| ·激光微细熔覆磁性介质膜的成膜机理和附着机理 | 第158-159页 |
| ·磁性介质浆料的热分析 | 第158-159页 |
| ·磁性介质膜的成膜机理和附着机理 | 第159页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电感性能的研究及其应用 | 第159-162页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电感性能的研究 | 第159-161页 |
| ·激光微细熔覆快速制造厚膜电感的应用 | 第161-162页 |
| ·小结 | 第162-164页 |
| 7 总结和展望 | 第164-167页 |
| ·主要结论 | 第164-165页 |
| ·问题和展望 | 第165-167页 |
| 致谢 | 第167-169页 |
| 参考文献 | 第169-177页 |
| 附录1 攻读博士学位期间发表论文目录 | 第177-179页 |
| 一、攻读博士学位期间所发表（含已录用）的论文 | 第177-178页 |
| 二、攻读博士学位期间目前已投稿的论文 | 第178-179页 |
| 附录2 攻读博士学位期间相关成果和专利 | 第179页 |
