| 第一章 绪论 | 第1-20页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第7-8页 |
| ·金刚石膜的性质及应用 | 第8-12页 |
| ·金刚石膜的发展过程 | 第12-14页 |
| ·化学气相沉积金刚石膜的几种方法介绍 | 第14-17页 |
| ·本论文的选题及主要内容 | 第17-20页 |
| 第二章 实验设备和实验方法 | 第20-27页 |
| ·微波PCVD 法制备金刚石膜的介绍 | 第20-21页 |
| ·微波CVD 金刚石膜沉积系统简介 | 第21-24页 |
| ·微波PCVD 金刚石膜制备工艺 | 第24-27页 |
| 第三章 微波PCVD 法制备高品质金刚石膜的特性研究 | 第27-43页 |
| ·引言 | 第27-28页 |
| ·微波功率对金刚石膜生长特性的影响 | 第28-33页 |
| ·碳源浓度对金刚石膜生长特性的影响 | 第33-39页 |
| ·氧气对金刚石膜生长特性的影响 | 第39-43页 |
| 第四章 光学级透明金刚石膜的性质研究 | 第43-55页 |
| ·光学级透明金刚石膜简介 | 第43-44页 |
| ·金刚石膜光透过率理论极限值的计算 | 第44-48页 |
| ·透明金刚石膜紫外-可见光透过率的研究 | 第48-49页 |
| ·透明金刚石膜红外光透过率的研究 | 第49-53页 |
| ·光学级透明金刚石膜的其它性质 | 第53-55页 |
| 第五章 金刚石膜的内应力研究 | 第55-65页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·金刚石膜的内应力研究方法简介 | 第55-58页 |
| ·利用拉曼光谱分析微波PCVD 金刚石膜的应力 | 第58-60页 |
| ·利用XRD 谱研究金刚石膜的应变 | 第60-61页 |
| ·硅基底上金刚石膜的宏观应变和微观应变随甲烷浓度的变化 | 第61-63页 |
| ·抛光对金刚石自支撑膜宏观应变和微观应变的影响 | 第63-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结 | 第65-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 摘要 | 第73-75页 |
| ABSTRACT | 第75-78页 |
| 致谢 | 第78页 |