| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-19页 |
| ·金刚石的结构和特性 | 第7-10页 |
| ·类金刚石薄膜的研究 | 第10-17页 |
| ·类金刚石的结构 | 第10-12页 |
| ·类金刚石薄膜的性质 | 第12-13页 |
| ·类金刚石薄膜的制备 | 第13-15页 |
| ·类金刚石薄膜的应用 | 第15-16页 |
| ·国内外类金刚石膜研究概况及发展前景 | 第16-17页 |
| ·本文的研究内容 | 第17-19页 |
| 2 实验部分 | 第19-27页 |
| ·实验设备 | 第19-22页 |
| ·电阻热蒸发 | 第21页 |
| ·磁控溅射 | 第21页 |
| ·电子束蒸发 | 第21-22页 |
| ·离子束清洗 | 第22页 |
| ·实验材料 | 第22-23页 |
| ·薄膜制备 | 第23-25页 |
| ·基片的制备 | 第23页 |
| ·基片的清洗 | 第23页 |
| ·真空的获得 | 第23-24页 |
| ·离子束清洗 | 第24页 |
| ·电子束蒸发 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射 | 第25页 |
| ·薄膜的表征和分析 | 第25-27页 |
| ·激光Raman分析 | 第25-26页 |
| ·扫描电镜 | 第26页 |
| ·电阻测量 | 第26-27页 |
| 3 非平衡磁控溅射制备类金刚石薄膜的原理 | 第27-31页 |
| ·非平衡磁控溅射的原理 | 第27-30页 |
| ·直流溅射法 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射法 | 第28-29页 |
| ·非平衡磁控溅射法 | 第29-30页 |
| ·类金刚石薄膜形成的过程 | 第30页 |
| ·类金刚石薄膜中sp~3杂化碳原子的形成及含量提高机制 | 第30-31页 |
| 4 类金刚石薄膜与基体结合力的研究 | 第31-40页 |
| ·薄膜表面褶皱的产生 | 第31-35页 |
| ·薄膜的制备 | 第31-32页 |
| ·薄膜的Raman光谱分析 | 第32-33页 |
| ·褶皱产生的原因分析 | 第33-35页 |
| ·超声清洗对基体材料和类金刚石薄膜结合力的影响 | 第35-39页 |
| ·薄膜的制备 | 第35-36页 |
| ·薄膜样品的表面形貌 | 第36-37页 |
| ·薄膜的Raman光谱分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 5 DLC膜在不同基体材料上的附着力分析 | 第40-46页 |
| ·薄膜的制备 | 第40页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第40-42页 |
| ·薄膜的Raman光谱分析 | 第42-44页 |
| ·薄膜的直流导电性分析 | 第44页 |
| ·小结 | 第44-46页 |
| 6 Ni/DLC复合薄膜的性质研究 | 第46-54页 |
| ·Ni/DLC复合薄膜的制备 | 第46-47页 |
| ·过渡层的制备 | 第46-47页 |
| ·复合薄膜的制备 | 第47页 |
| ·Ni/DLC复合薄膜的扫描电镜分析 | 第47-52页 |
| ·Ni/DLC复合薄膜表面的SEM形貌像 | 第47-48页 |
| ·Ni/DLC复合薄膜断面的SEM形貌像 | 第48-49页 |
| ·Ni/DLC复合薄膜的EDS元素分析 | 第49-52页 |
| ·Ni/DLC复合薄膜的激光Raman光谱 | 第52-53页 |
| ·Ni/DLC复合薄膜的电阻测量 | 第53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 7 结论 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 附录A 真空镀膜仪的操作及实验过程中应注意的事项 | 第61-66页 |
| A.1 真空镀膜仪的操作 | 第61-64页 |
| A.1.1 真空的获得 | 第61页 |
| A.1.2 电阻热蒸发装置的使用 | 第61-62页 |
| A.1.3 磁控溅射装置的使用 | 第62页 |
| A.1.4 电子束蒸发装置的使用 | 第62页 |
| A.1.5 离子束清洗装置的操作 | 第62-63页 |
| A.1.6 水路的调节 | 第63-64页 |
| A.2 实验过程中的注意事项 | 第64-66页 |
| A.2.1 分子泵使用的注意事项 | 第64页 |
| A.2.2 热蒸发使用的注意事项 | 第64-65页 |
| A.2.3 磁控溅射操作的注意事项 | 第65页 |
| A.2.4 电子束操作的注意事项 | 第65页 |
| A.2.5 离子束清洗操作的注意事项 | 第65-66页 |
| A.2.6 膜厚仪使用的注意事项 | 第66页 |