| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-17页 |
| 第一章 综述 | 第17-43页 |
| 引言 | 第17-18页 |
| ·镁及镁合金 | 第18-21页 |
| ·镁及镁合金的一般特性 | 第18-19页 |
| ·镁合金系及其特点 | 第19-21页 |
| ·镁及镁合金的应用及工业现状 | 第21-25页 |
| ·镁及镁合金的应用 | 第21-23页 |
| ·镁及镁合金的工业现状 | 第23-25页 |
| ·镁及镁合金的腐蚀性能 | 第25-28页 |
| ·镁及镁合金的腐蚀 | 第25页 |
| ·冶金因素对腐蚀性能的影响 | 第25-26页 |
| ·环境因素对镁合金腐蚀性能的影响 | 第26-28页 |
| ·镁合金表面防腐蚀处理的现状和存在的问题 | 第28-34页 |
| ·化学转化膜 | 第28-30页 |
| ·电镀和化学镀 | 第30页 |
| ·阳极氧化 | 第30-31页 |
| ·微弧阳极氧化 | 第31页 |
| ·激光辅助处理 | 第31页 |
| ·气相沉积 | 第31-32页 |
| ·有机物涂层及其他 | 第32-33页 |
| ·目前镁合金表面防腐蚀处理的局限性 | 第33-34页 |
| ·加弧辉光离子渗镀技术 | 第34-37页 |
| ·加弧辉光离子渗镀技术来源 | 第34-35页 |
| ·加弧辉光离子渗镀技术原理 | 第35页 |
| ·加弧辉光离子渗镀技术的优点 | 第35页 |
| ·加弧辉光离子渗镀技术的应用 | 第35-36页 |
| ·加弧辉光离子渗镀技术发展 | 第36-37页 |
| ·研究课题的提出及主要内容 | 第37-38页 |
| ·研究课题的提出 | 第37页 |
| ·课题的主要研究内容 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-43页 |
| 第二章 工艺参数对镁合金弧辉渗镀Ti、Cr薄膜表面形貌及结合强度等影响研究 | 第43-58页 |
| 引言 | 第43页 |
| ·试验设备、材料及过程 | 第43-47页 |
| ·实验设备 | 第43-44页 |
| ·试验材料的选择 | 第44-46页 |
| ·试样的制备 | 第46页 |
| ·试验过程 | 第46-47页 |
| ·检测方法 | 第47页 |
| ·工艺参数的优化 | 第47-56页 |
| ·基体的温度对膜层的影响 | 第47-49页 |
| ·偏压对膜层的影响 | 第49-50页 |
| ·弧电流对膜层的影响 | 第50-52页 |
| ·工作时间对膜层的影响 | 第52-54页 |
| ·工件与弧靶间距离对膜层的影响 | 第54-55页 |
| ·气压对沉积的影响 | 第55页 |
| ·最佳工艺参数 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第三章 镁合金表面弧辉渗镀Ti、Cr膜层组织、结构及硬度等的研究 | 第58-72页 |
| 引言 | 第58页 |
| ·实物数码照片 | 第58-59页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)等观察薄膜的微观形貌、晶粒度 | 第59-60页 |
| ·断面扫描电子显微镜(SEM) | 第60-62页 |
| ·X射线能谱(EDS)及X射线衍射(XRD)相组成检测 | 第62-66页 |
| ·辉光放电成分测试(GDS) | 第66-68页 |
| ·薄膜的表面硬度测试 | 第68-69页 |
| 本章小节 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第四章 镁合金表面弧辉渗镀Ti、Cr薄膜与基体附着力的测试研究 | 第72-86页 |
| 引言 | 第72页 |
| ·附着机理 | 第72-74页 |
| ·增加附着力的方法 | 第74-75页 |
| ·对基体行清洁处理 | 第74-75页 |
| ·提高基体温度 | 第75页 |
| ·制造中间过渡层 | 第75页 |
| ·附着力的测试方法 | 第75-83页 |
| ·直接法 | 第76-80页 |
| ·胶粘法 | 第80-83页 |
| ·附着力测量中的有关问题 | 第83页 |
| ·测量值的可靠性 | 第83页 |
| ·测量值的的分散性 | 第83页 |
| ·附着力的时效变化 | 第83页 |
| 本章小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-86页 |
| 第五章 镁合金表面弧辉渗镀Ti、Cr薄膜腐蚀性能研究 | 第86-115页 |
| 引言 | 第86页 |
| ·盐雾实验 | 第86-89页 |
| ·盐雾实验设备和方法 | 第86-87页 |
| ·盐雾实验结果 | 第87-89页 |
| ·电化学腐蚀行为测试 | 第89-95页 |
| ·电化学腐蚀理论 | 第89-91页 |
| ·电化学腐蚀实验方法 | 第91-92页 |
| ·电化学腐蚀实验结果与分析 | 第92-95页 |
| ·弧辉渗镀Ti、Cr薄膜盐雾实验和电化学腐蚀过程机理研究 | 第95-98页 |
| ·室外大气暴露腐蚀试验的研究 | 第98-108页 |
| ·我国气候区的划分和试验站主要环境因素与气象特征 | 第98-100页 |
| ·试验方法 | 第100-102页 |
| ·结果和讨论 | 第102-108页 |
| ·弧辉渗镀Ti、Cr薄膜室外大气暴露腐蚀过程机理研究 | 第108-111页 |
| ·基体镁合金室外大气暴露腐蚀过程机理研究 | 第108-109页 |
| ·镁合金渗镀Ti、Cr薄膜后室外大气暴露腐蚀过程机理研究 | 第109-111页 |
| 本章小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-115页 |
| 第六章 用格子气自动机模型模拟分析弧辉渗镀Ti、Cr薄膜的生长 | 第115-127页 |
| 引言 | 第115页 |
| ·格子气自动机(LGA)的基本原理 | 第115-117页 |
| ·用格子气自动机模型模拟薄膜中晶核的生长 | 第117-122页 |
| ·模型 | 第118页 |
| ·初始分布 | 第118页 |
| ·碰撞规则 | 第118-120页 |
| ·边界处理 | 第120-121页 |
| ·模拟结果 | 第121-122页 |
| ·薄膜生长机理 | 第122-123页 |
| ·用模拟结果及薄膜生长机理分析制备的薄膜 | 第123-124页 |
| 本章小结 | 第124页 |
| 参考文献 | 第124-127页 |
| 第七章 结论 | 第127-129页 |
| 附录 | 第129-154页 |
| 攻读博士学位期间发表的研究论文及科研成果 | 第154-157页 |
| 致谢 | 第157页 |
