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弧辉渗镀技术在镁合金表面形成钛铬薄膜及其耐蚀性能研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-17页
第一章 综述第17-43页
 引言第17-18页
   ·镁及镁合金第18-21页
     ·镁及镁合金的一般特性第18-19页
     ·镁合金系及其特点第19-21页
   ·镁及镁合金的应用及工业现状第21-25页
     ·镁及镁合金的应用第21-23页
     ·镁及镁合金的工业现状第23-25页
   ·镁及镁合金的腐蚀性能第25-28页
     ·镁及镁合金的腐蚀第25页
     ·冶金因素对腐蚀性能的影响第25-26页
     ·环境因素对镁合金腐蚀性能的影响第26-28页
   ·镁合金表面防腐蚀处理的现状和存在的问题第28-34页
     ·化学转化膜第28-30页
     ·电镀和化学镀第30页
     ·阳极氧化第30-31页
     ·微弧阳极氧化第31页
     ·激光辅助处理第31页
     ·气相沉积第31-32页
     ·有机物涂层及其他第32-33页
     ·目前镁合金表面防腐蚀处理的局限性第33-34页
   ·加弧辉光离子渗镀技术第34-37页
     ·加弧辉光离子渗镀技术来源第34-35页
     ·加弧辉光离子渗镀技术原理第35页
     ·加弧辉光离子渗镀技术的优点第35页
     ·加弧辉光离子渗镀技术的应用第35-36页
     ·加弧辉光离子渗镀技术发展第36-37页
   ·研究课题的提出及主要内容第37-38页
     ·研究课题的提出第37页
     ·课题的主要研究内容第37-38页
 参考文献第38-43页
第二章 工艺参数对镁合金弧辉渗镀Ti、Cr薄膜表面形貌及结合强度等影响研究第43-58页
 引言第43页
   ·试验设备、材料及过程第43-47页
     ·实验设备第43-44页
     ·试验材料的选择第44-46页
     ·试样的制备第46页
     ·试验过程第46-47页
     ·检测方法第47页
   ·工艺参数的优化第47-56页
     ·基体的温度对膜层的影响第47-49页
     ·偏压对膜层的影响第49-50页
     ·弧电流对膜层的影响第50-52页
     ·工作时间对膜层的影响第52-54页
     ·工件与弧靶间距离对膜层的影响第54-55页
     ·气压对沉积的影响第55页
     ·最佳工艺参数第55-56页
 参考文献第56-58页
第三章 镁合金表面弧辉渗镀Ti、Cr膜层组织、结构及硬度等的研究第58-72页
 引言第58页
   ·实物数码照片第58-59页
   ·扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)等观察薄膜的微观形貌、晶粒度第59-60页
   ·断面扫描电子显微镜(SEM)第60-62页
   ·X射线能谱(EDS)及X射线衍射(XRD)相组成检测第62-66页
   ·辉光放电成分测试(GDS)第66-68页
   ·薄膜的表面硬度测试第68-69页
 本章小节第69-70页
 参考文献第70-72页
第四章 镁合金表面弧辉渗镀Ti、Cr薄膜与基体附着力的测试研究第72-86页
 引言第72页
   ·附着机理第72-74页
   ·增加附着力的方法第74-75页
     ·对基体行清洁处理第74-75页
     ·提高基体温度第75页
     ·制造中间过渡层第75页
   ·附着力的测试方法第75-83页
     ·直接法第76-80页
     ·胶粘法第80-83页
   ·附着力测量中的有关问题第83页
     ·测量值的可靠性第83页
     ·测量值的的分散性第83页
     ·附着力的时效变化第83页
 本章小结第83-84页
 参考文献第84-86页
第五章 镁合金表面弧辉渗镀Ti、Cr薄膜腐蚀性能研究第86-115页
 引言第86页
   ·盐雾实验第86-89页
     ·盐雾实验设备和方法第86-87页
     ·盐雾实验结果第87-89页
   ·电化学腐蚀行为测试第89-95页
     ·电化学腐蚀理论第89-91页
     ·电化学腐蚀实验方法第91-92页
     ·电化学腐蚀实验结果与分析第92-95页
   ·弧辉渗镀Ti、Cr薄膜盐雾实验和电化学腐蚀过程机理研究第95-98页
   ·室外大气暴露腐蚀试验的研究第98-108页
     ·我国气候区的划分和试验站主要环境因素与气象特征第98-100页
     ·试验方法第100-102页
     ·结果和讨论第102-108页
   ·弧辉渗镀Ti、Cr薄膜室外大气暴露腐蚀过程机理研究第108-111页
     ·基体镁合金室外大气暴露腐蚀过程机理研究第108-109页
     ·镁合金渗镀Ti、Cr薄膜后室外大气暴露腐蚀过程机理研究第109-111页
 本章小结第111-112页
 参考文献第112-115页
第六章 用格子气自动机模型模拟分析弧辉渗镀Ti、Cr薄膜的生长第115-127页
 引言第115页
   ·格子气自动机(LGA)的基本原理第115-117页
   ·用格子气自动机模型模拟薄膜中晶核的生长第117-122页
     ·模型第118页
     ·初始分布第118页
     ·碰撞规则第118-120页
     ·边界处理第120-121页
     ·模拟结果第121-122页
   ·薄膜生长机理第122-123页
   ·用模拟结果及薄膜生长机理分析制备的薄膜第123-124页
 本章小结第124页
 参考文献第124-127页
第七章 结论第127-129页
附录第129-154页
攻读博士学位期间发表的研究论文及科研成果第154-157页
致谢第157页

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