改善蓝宝石高温强度和透过率的镀膜技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究背景 | 第10-12页 |
| ·影响蓝宝石高温强度的因素 | 第12-13页 |
| ·晶体取向和测试温度 | 第12-13页 |
| ·应力状态 | 第13页 |
| ·表面缺陷 | 第13页 |
| ·提高蓝宝石高温强度的途径 | 第13-15页 |
| ·改善表面加工状态 | 第13-14页 |
| ·热处理方法 | 第14页 |
| ·掺杂方法 | 第14页 |
| ·加垫片 | 第14-15页 |
| ·镀膜方法 | 第15页 |
| ·压应力薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| ·氧化硅和氮化硅薄膜的性能 | 第17-21页 |
| ·氧化硅薄膜的性能 | 第17-19页 |
| ·氮化硅薄膜的性能 | 第19-21页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 膜系设计与分析 | 第22-32页 |
| ·膜系设计的基本理论 | 第22-27页 |
| ·膜系设计的一般原理 | 第22-24页 |
| ·膜系评价函数 | 第24页 |
| ·最优化方法 | 第24-26页 |
| ·增透保护膜系设计 | 第26-27页 |
| ·膜系设计的实现 | 第27-28页 |
| ·膜系设计的结果 | 第28-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 工艺实验方法和内容 | 第32-46页 |
| ·射频磁控反应溅射镀膜的基本原理 | 第32-37页 |
| ·溅射镀膜 | 第32-33页 |
| ·射频溅射 | 第33-34页 |
| ·磁控溅射 | 第34-36页 |
| ·反应溅射 | 第36-37页 |
| ·试验装置 | 第37-38页 |
| ·基本工艺参数的选择 | 第38-40页 |
| ·基本工艺参数 | 第38-39页 |
| ·工艺参数的选择 | 第39-40页 |
| ·工艺流程 | 第40页 |
| ·薄膜的分析检测 | 第40-45页 |
| ·厚度的测量 | 第40-42页 |
| ·成分分析 | 第42-43页 |
| ·结构分析 | 第43页 |
| ·红外光学性能的测量 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 实验结果与分析 | 第46-71页 |
| ·薄膜形成的工艺条件 | 第46页 |
| ·工艺参数对沉积速率的影响规律 | 第46-50页 |
| ·射频功率对薄膜沉积速率的影响 | 第46-47页 |
| ·气体流量对薄膜沉积速率的影响 | 第47-49页 |
| ·溅射气压对薄膜沉积速率的影响 | 第49-50页 |
| ·衬底温度对薄膜沉积速率的影响 | 第50页 |
| ·Si_3N_4薄膜的成分分析 | 第50-53页 |
| ·Si_3N_4薄膜的结构分析 | 第53-54页 |
| ·薄膜的折射率 | 第54-55页 |
| ·镀膜后蓝宝石的红外光学性能 | 第55-57页 |
| ·镀膜后蓝宝石的力学性能 | 第57-62页 |
| ·高温强度测试 | 第57-58页 |
| ·高温强度测试前后的红外透过率 | 第58-60页 |
| ·高温强度测试后试样分析 | 第60-62页 |
| ·蓝宝石高温透过率 | 第62-64页 |
| ·蓝宝石头罩镀膜分析 | 第64-70页 |
| ·实验装置及控制软件 | 第64-67页 |
| ·头罩增透保护膜系的制备 | 第67-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 独创性声明 | 第78页 |
| 知识产权保护声明 | 第78页 |
