| 第一章 绪论 | 第1-13页 |
| ·真空断路器和真空灭弧室 | 第9-10页 |
| ·真空灭弧室的基本结构和基本工作原理 | 第10-13页 |
| ·真空灭弧室的基本结构 | 第10-12页 |
| ·真空灭弧室的基本工作原理 | 第12-13页 |
| 第二章 真空灭弧室的工作机理和技术动态 | 第13-23页 |
| ·真空下的绝缘特性 | 第13-16页 |
| ·真空灭弧室短路电流的开断 | 第16-20页 |
| ·真空中电弧的特性 | 第17-19页 |
| ·扩散型真空电弧 | 第17-18页 |
| ·集聚型真空电弧 | 第18-19页 |
| ·弧后介质的恢复 | 第19-20页 |
| ·目前国际上真空灭弧室的技术状态和发展方向 | 第20-21页 |
| ·本文的研究目的和意义 | 第21-23页 |
| 第三章 本题目的方案 | 第23-44页 |
| ·真空灭弧室的触头结构 | 第23-26页 |
| ·纵向磁场触头结构 | 第23-24页 |
| ·横向磁场触头结构 | 第24-26页 |
| ·真空灭弧室的触头材料 | 第26-28页 |
| ·真空灭弧室的工作机理 | 第28-30页 |
| ·本课题拟采用的方案 | 第30-34页 |
| ·杯状横磁场触头的设计结构特点 | 第30-32页 |
| ·杯状横向磁场真空灭弧室的结构 | 第32-34页 |
| ·杯状横磁触头结构真空灭弧室的主要技术参数（行业标准） | 第34页 |
| ·杯状横向磁场强度及分布 | 第34-37页 |
| ·模型的建立 | 第34-36页 |
| ·杯状横向磁场强度分析结果 | 第36-37页 |
| ·杯状横向磁场强度分析结果与讨论 | 第37页 |
| ·杯状横向磁场触头结构温升 CAE 及分析 | 第37-40页 |
| ·模型的建立 | 第38页 |
| ·杯状横向磁场触头结构温升测量及分析结果 | 第38-40页 |
| ·杯状横向磁场触头结构温升结果与讨论 | 第40页 |
| ·杯状横磁灭弧室电场强度 CAE 分析 | 第40-44页 |
| ·杯状横磁灭弧室电场强度的建模 | 第40-41页 |
| ·杯状横向磁场电场强度的分析结果 | 第41-43页 |
| ·杯状横向磁场电场强度的分析结果与讨论 | 第43-44页 |
| 第四章 试验 | 第44-60页 |
| ·试验条件 | 第44-51页 |
| ·真空灭弧室的使用条件 | 第44-50页 |
| ·试验条件 | 第50-51页 |
| ·试品情况 | 第51-60页 |
| ·试验数据的测量 | 第51页 |
| ·本次真空灭弧室样品试验的结构参数 | 第51-52页 |
| ·型式试验情况 | 第52-59页 |
| ·试验情况讨论 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 个人简历 | 第64页 |