低碳球铁的表面处理
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·低碳球铁简介 | 第9-11页 |
| ·铁素体低碳球铁 | 第10页 |
| ·铸态高强度珠光体低碳球 | 第10-11页 |
| ·准铸态贝氏体低碳球铁 | 第11页 |
| ·铸态耐热、耐蚀奥氏体低碳球铁 | 第11页 |
| ·选题目的和意义 | 第11-18页 |
| ·铸渗技术 | 第12-16页 |
| ·激光表面处理技术 | 第16-18页 |
| ·低碳球铁的表面处理的国内外研究概况 | 第18-21页 |
| ·铸渗的国内外研究概况 | 第18-20页 |
| ·激光表面处理国内外研究动态及现状 | 第20-21页 |
| ·选题的可行性分析 | 第21页 |
| ·预期的目标 | 第21-23页 |
| 第二章 铸渗试验设计和试验内容 | 第23-37页 |
| ·试验准备 | 第23-24页 |
| ·母体和渗层合金的成分 | 第23页 |
| ·主要试验设备 | 第23-24页 |
| ·待铸渗合金粉末的成分设计与确定 | 第24-29页 |
| ·铬和碳的选择 | 第25-27页 |
| ·其他合金元素的选择 | 第27-29页 |
| ·工艺分析与选择 | 第29-36页 |
| ·合金粉末的工艺性能分析 | 第30页 |
| ·合金粉末块中的合金粉末粒度选择 | 第30页 |
| ·粘接剂的选择及用量 | 第30-32页 |
| ·溶剂的选择及用量 | 第32-33页 |
| ·浇注温度的选择 | 第33-34页 |
| ·浇注系统以及待渗合金块放置方位的选择 | 第34-35页 |
| ·铸型、膏块或涂覆层的预热 | 第35页 |
| ·膏块或涂覆层的厚度 | 第35-36页 |
| ·铸渗工艺路线 | 第36-37页 |
| 第三章 激光表面合金化试验设计和试验内容 | 第37-43页 |
| ·试验准备 | 第37页 |
| ·激光表面处理试验设备 | 第37-38页 |
| ·激光表面处理试验分析 | 第38-41页 |
| ·激光器及工艺对强化效果的影响 | 第38-41页 |
| ·试样原始组织的分析和选择 | 第41页 |
| ·激光表面处理工艺参数的最终选择 | 第41-42页 |
| ·激光表面处理简化工艺流程 | 第42-43页 |
| 第四章 铸渗试验结果与分析 | 第43-55页 |
| ·对合金化层的初步检测 | 第43页 |
| ·铸渗试验结果的组织分析 | 第43-47页 |
| ·母体组织 | 第44页 |
| ·界面组织 | 第44-45页 |
| ·渗层的金相组织 | 第45-46页 |
| ·铸渗外层(烧结层)组织 | 第46-47页 |
| ·普通铸渗的成分及物相分析 | 第47-49页 |
| ·合金的微区元素分析 | 第47-48页 |
| ·合金层的线扫描图 | 第48-49页 |
| ·表面合金层的X射线物相分析 | 第49页 |
| ·普通铸渗性能试验结果及分析 | 第49-55页 |
| ·硬度结果及分析 | 第49-53页 |
| ·结合强度 | 第53页 |
| ·耐磨性及耐腐蚀性 | 第53-55页 |
| 第五章 低碳球铁激光表面处理结果及分析 | 第55-65页 |
| ·试验结果概述 | 第55页 |
| ·低碳球铁激光表面处理组织变化 | 第55-58页 |
| ·激光表面处理后组织变化一般规律 | 第55-56页 |
| ·低碳球铁经过激光表面处理后的组织及分析 | 第56-58页 |
| ·激光处理试样的硬度 | 第58-65页 |
| ·表面熔化层的最高硬度 | 第58-59页 |
| ·试样经激光处理后的表面层硬度分布 | 第59-64页 |
| ·激光处理试样自熔化表面向母体内部的硬度分布 | 第64-65页 |
| 第六章 铸渗讨论 | 第65-75页 |
| ·前言 | 第65页 |
| ·对铸渗机理的讨论 | 第65-73页 |
| ·本试验铸渗过程合金块中的温度分布模拟 | 第65-68页 |
| ·本试验铸渗过程中体系自由能的变化 | 第68-69页 |
| ·单个的中碳铬铁粉末的熔化过程 | 第69-70页 |
| ·整个合金块的熔化过程 | 第70-71页 |
| ·自熔性合金粉末在铸渗过程中的作用 | 第71-73页 |
| ·铸渗缺陷分析 | 第73-75页 |
| ·空洞洞缺陷分析 | 第73页 |
| ·合金青块与母材的结合分析 | 第73-75页 |
| 第七章 激光表面处理讨论 | 第75-79页 |
| ·黑化剂的选择的理论探讨 | 第75-76页 |
| ·激光合金化的质量控制 | 第76-78页 |
| ·变形、裂纹和气孔 | 第76页 |
| ·氧化与烧损 | 第76-77页 |
| ·表面粗糙度的控制 | 第77-78页 |
| ·熔敷区的内部强化机制 | 第78-79页 |
| ·细晶强化 | 第78页 |
| ·固熔强化 | 第78页 |
| ·弥散强化 | 第78-79页 |
| 第八章 结论 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 附表A 读研期间发表的论文 | 第87页 |
