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In(OH)3纳米晶的制备、表征及光催化性能研究

摘要第1-4页
Abstract第4-6页
目录第6-9页
第一章 前言第9-29页
   ·纳米半导体材料概述第9-16页
     ·纳米材料第9-10页
     ·半导体材料第10页
     ·纳米半导体材料的特性第10-13页
       ·光学性质第10-11页
       ·光电转化特性第11页
       ·电学特性第11-12页
       ·光电催化特性第12-13页
     ·纳米半导体材料的合成方法第13-16页
       ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel)第13-14页
       ·模板合成法第14页
       ·溶液热反应法第14-15页
       ·微乳液法第15页
       ·沉淀法第15页
       ·超声合成法第15-16页
   ·半导体光催化研究概述第16-26页
     ·研究背景第16-18页
       ·发展史第16-17页
       ·环境光催化第17页
       ·半导体光催化技术的应用第17-18页
     ·光催化作用基本原理第18-21页
       ·半导体的能带结构第18-19页
       ·半导体光催化过程第19-21页
     ·TiO_2光催化剂失活与再生第21-22页
       ·TiO_2催化剂的失活第21-22页
       ·TiO_2催化剂的再生第22页
     ·非 TiO_2光催化剂第22-26页
       ·紫外光光催化剂第22-24页
       ·可见光光催化剂第24-25页
       ·染料敏化光催化剂第25-26页
   ·本论文的立题依据与实验构想第26-29页
第二章 实验部分第29-34页
   ·试剂及设备第29-30页
     ·主要实验试剂第29页
     ·主要设备及仪器第29-30页
   ·实验方法第30-34页
     ·In(OH)_3的制备第30-31页
     ·In(OH)_3的物性表征第31-32页
       ·热重-差示扫描量热分析(TG-DSC)第31页
       ·晶相结构表征(XRD)第31页
       ·透射电镜(TEM)分析第31页
       ·比表面积(BET)、孔容、孔径测定第31-32页
       ·紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-Vis-DRS)测定第32页
       ·傅立叶变换红外光谱(FTIR)测定第32页
       ·X-射线光电子能谱(XPS)分析第32页
     ·光催化活性评价第32-34页
       ·连续流动法第32-33页
       ·间歇法第33-34页
第三章 In(OH)_3纳米催化剂结构和性质第34-47页
   ·引言第34-35页
   ·TG-DSC 分析第35页
   ·晶相结构第35-36页
   ·比表面第36-38页
   ·形貌(TEM-EDS 分析)第38-39页
   ·红外光谱第39页
   ·紫外可见漫反射吸收光谱第39-41页
   ·X-射线光电子能谱第41-46页
   ·本章小结第46-47页
第四章 In(OH)_3纳米晶气相光催化性能第47-62页
   ·引言第47-48页
   ·丙酮的光催化降解第48-52页
     ·In(OH)_3、In_2O_3、TiO_2光催化性能比较第48-49页
     ·焙烧温度对 In(OH)_3光催化性能的影响第49-50页
     ·光催化剂的活性稳定性第50-51页
     ·光催化反应前后催化剂表面 UV-Vis-DRS 谱分析第51-52页
   ·芳香族化合物的光催化降解第52-61页
     ·苯在 In(OH)_3、In_2O_3、TiO_2上的光催化性能比较第52-54页
     ·水蒸气的影响第54-55页
     ·水蒸气条件下的催化剂再生第55-56页
     ·光催化反应前后催化剂表面 UV-Vis-DRS 谱分析第56-57页
     ·光催化反应前后晶相分析第57页
     ·光催化反应前后红外谱分析第57-59页
     ·光催化反应前后表面价态和元素含量分析第59-61页
   ·本章小结第61-62页
第五章 硝酸根对 In(OH)_3性能的影响第62-67页
   ·引言第62页
   ·X-射线粉末衍射第62-63页
   ·紫外-可见漫反射吸收光谱第63页
   ·X-射线光电子能谱第63-65页
   ·光催化降解丙酮活性第65-66页
   ·光催化反应前后催化剂表面UV-Vis-DRS 谱分析第66页
   ·本章小结第66-67页
结论第67-68页
参考文献第68-81页
致谢第81-82页
个人简历第82页
发表文章目录第82页

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