| 摘 要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-15页 |
| 第一章 绪 论 | 第15-26页 |
| ·研究背景及其意义 | 第15-16页 |
| ·核能是世界能源发展的必然与战略选择 | 第15页 |
| ·辐照腐蚀是核反应堆安全运行的瓶颈 | 第15-16页 |
| ·堆外模拟是核工业发展的重要研究课题 | 第16页 |
| ·国内外研究动态 | 第16-23页 |
| ·国外辐照腐蚀研究动态 | 第16-21页 |
| ·中子辐照对锆合金微观结构与氧化性能的影响 | 第17-19页 |
| ·辐照对锆合金耐蚀性能的影响 | 第19-21页 |
| ·离子轰击模拟中子辐照腐蚀 | 第21页 |
| ·国内辐照腐蚀研究动态 | 第21-23页 |
| ·离子注入锆合金表面调整技术 | 第23-25页 |
| ·本论文工作的主要研究内容 | 第25-26页 |
| 第二章 实验方法 | 第26-50页 |
| ·样品状态及预处理 | 第26-27页 |
| ·样品历史 | 第26-27页 |
| ·样品预处理 | 第27页 |
| ·表面改性实验方法 | 第27-40页 |
| ·离子注入 | 第27-35页 |
| ·高能氪离子轰击对锆合金腐蚀性能影响的实验方法 | 第35页 |
| ·损伤水平参数dpa的TRIM程序模拟计算 | 第35-38页 |
| ·透射电镜样品的制备 | 第38-39页 |
| ·实验方案 | 第39-40页 |
| ·性能测试 | 第40-42页 |
| ·电化学极化曲线测定 | 第40-42页 |
| ·空气氧化增重实验 | 第42页 |
| ·表层成分与微观结构等的分析方法 | 第42-50页 |
| ·X光电子能谱 | 第42-43页 |
| ·扫描俄歇微探针分析仪 | 第43页 |
| ·X光衍射仪 | 第43-44页 |
| ·透射电子显微镜 | 第44-45页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第45-46页 |
| ·慢正电子谱测定实验 | 第46-50页 |
| 第三章 稀土元素钇镧铈离子注入对锆合金耐蚀性的影响 | 第50-76页 |
| ·稀土元素钇镧铈离子单独注入对锆合金耐蚀性能的影响 | 第50-69页 |
| ·钇离子注入对纯锆耐蚀性的影响 | 第50-54页 |
| ·注入钇离子在纯锆表面层中的价态 | 第50-51页 |
| ·钇离子注入纯锆表面后的电化学腐蚀行为 | 第51-53页 |
| ·钇离子注入纯锆后电化学腐蚀行为机理 | 第53-54页 |
| ·镧离子注入对纯锆耐蚀性的影响 | 第54-58页 |
| ·注入镧离子在纯锆表面层中的价态 | 第54-55页 |
| ·镧离子注入纯锆表面后的电化学腐蚀行为 | 第55-57页 |
| ·镧离子注入纯锆后电化学腐蚀行为机理 | 第57-58页 |
| ·铈离子注入对纯锆耐蚀性的影响 | 第58-62页 |
| ·注入铈离子在纯锆表面层中的价态 | 第58-59页 |
| ·铈离子注入纯锆表面后的电化学腐蚀行为 | 第59-60页 |
| ·铈离子注入纯锆后电化学腐蚀行为机理 | 第60-61页 |
| ·GAXRD研究铈离子注入纯锆表面后氧化膜的致密性 | 第61-62页 |
| ·铈离子注入对Zr-4耐蚀性的影响 | 第62-69页 |
| ·注入铈离子在Zr-4表面层中的价态 | 第62-64页 |
| ·Zr-4合金注入层中各元素的深度分布 | 第64-65页 |
| ·铈离子注入纯锆表面后的电化学腐蚀行为 | 第65-67页 |
| ·铈离子注入Zr-4后电化学腐蚀行为机理 | 第67-68页 |
| ·GAXRD研究铈离子注入Zr-4表面后氧化膜的致密性 | 第68-69页 |
| ·钇铈混合离子注入对锆合金耐蚀性能的影响 | 第69-75页 |
| ·混合离子注入Y+Ce后在锆合金表面层中各元素的价态 | 第69-71页 |
| ·混合离子Y+Ce注入锆合金表面后的电化学腐蚀行为 | 第71-74页 |
| ·混合离子Y+Ce注入锆合金后电化学腐蚀行为机理 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第四章 Zr-4合金化元素铬镍锡离子注入对锆合金耐蚀性能的影响 | 第76-129页 |
| ·铬离子注入对锆合金耐蚀性能的影响 | 第76-90页 |
| ·铬离子注入对纯锆耐蚀性的影响 | 第76-83页 |
| ·铬离子注入纯锆表面后各元素的价态 | 第76-77页 |
| ·铬离子注入纯锆表面后各元素的深度分布 | 第77-78页 |
| ·铬离子注入纯锆表面后的扫描电镜图(SEM) | 第78-79页 |
| ·铬离子注入纯锆后表面膜的微观结构(TEM) | 第79-80页 |
| ·铬离子注入纯锆后的电化学腐蚀行为 | 第80-82页 |
| ·铬离子注入纯锆后的电化学腐蚀行为机理 | 第82-83页 |
| ·铬离子注入对Zr-4合金耐蚀性的影响 | 第83-90页 |
| ·铬离子注入Zr-4合金表面后各元素的价态 | 第83-84页 |
| ·铬离子注入Zr-4合金表面后各元素的深度分布 | 第84-85页 |
| ·铬离子注入Zr-4合金后表面膜的微观结构(TEM) | 第85-86页 |
| ·铬离子注入Zr-4合金后的电化学腐蚀行为 | 第86-88页 |
| ·铬离子注入Zr-4合金后的电化学腐蚀行为机理 | 第88-90页 |
| ·镍离子注入对锆合金耐蚀性的影响 | 第90-107页 |
| ·镍离子注入对纯锆耐蚀性的影响 | 第90-99页 |
| ·镍离子注入纯锆表面后各元素的价态 | 第90-91页 |
| ·镍离子注入纯锆表面后各元素的深度分布 | 第91-93页 |
| ·镍离子注入纯锆表面后的扫描电镜图(SEM) | 第93-94页 |
| ·镍离子注入纯锆后表面膜的微观结构(TEM) | 第94-95页 |
| ·镍离子注入纯锆后的电化学腐蚀行 | 第95-98页 |
| ·镍离子注入纯锆后的电化学腐蚀行为机理 | 第98-99页 |
| ·镍离子注入对Zr-4合金耐蚀性的影响 | 第99-107页 |
| ·镍离子注入Zr-4表面后各元素的价态 | 第99-100页 |
| ·镍离子注入Zr-4合金表面后各元素的深度分布 | 第100-101页 |
| ·镍离子注入Zr-4合金表面后的扫描电镜图(SEM) | 第101-102页 |
| ·镍离子注入Zr-4合金后表面膜的微观结构(TEM) | 第102-103页 |
| ·镍离子注入Zr-4合金后的电化学腐蚀行为 | 第103-106页 |
| ·镍离子注入Zr-4合金后的电化学腐蚀行为机理 | 第106-107页 |
| ·锡离子注入对锆合金耐蚀性的影响 | 第107-127页 |
| ·锡离子注入对纯锆耐蚀性的影响 | 第107-117页 |
| ·锡离子注入纯锆表面后各元素的价态 | 第107-109页 |
| ·锡离子注入纯锆表面后各元素的深度分布 | 第109-110页 |
| ·锡离子注入纯锆后的表面形貌(SEM) | 第110-112页 |
| ·锡离子注入纯锆后表面膜的微观结构(TEM) | 第112-113页 |
| ·锡离子注入纯锆后的电化学腐蚀行为 | 第113-116页 |
| ·锡离子注入纯锆后的电化学腐蚀行为机理 | 第116-117页 |
| ·锡离子注入对Zr-4合金耐蚀性的影响 | 第117-127页 |
| ·锡离子注入Zr-4合金表面后各元素的价态 | 第117-119页 |
| ·锡离子注入Zr-4合金表面后各元素的深度分布 | 第119-120页 |
| ·锡离子注入Zr-4合金后的表面形貌(SEM) | 第120-122页 |
| ·锡离子注入Zr-4合金后表面膜的微观结构(TEM) | 第122-123页 |
| ·锡离子注入Zr-4合金后的电化学腐蚀行为 | 第123-126页 |
| ·锡离子注入Zr-4合金后的电化学腐蚀行为机理 | 第126-127页 |
| ·本章小结 | 第127-129页 |
| 第五章 难熔金属钼离子注入对锆合金耐蚀性的影响 | 第129-146页 |
| ·钼离子注入对纯锆耐蚀性的影响 | 第129-136页 |
| ·钼离子注入纯锆表面后各元素的价态 | 第129-131页 |
| ·钼离子注入纯锆表面后各元素的深度分布 | 第131-133页 |
| ·钼离子注入纯锆后的电化学腐蚀行为 | 第133-134页 |
| ·三次极化测量后注入样品的腐蚀形貌(SEM) | 第134-136页 |
| ·钼离子注入纯锆后的电化学腐蚀行为机理 | 第136页 |
| ·钼离子注入对Zr-4合金耐蚀性的影响 | 第136-145页 |
| ·钼离子注入Zr-4合金表面后各元素的价态 | 第136-140页 |
| ·钼离子注入Zr-4合金表面后各元素的深度分布 | 第140-141页 |
| ·钼离子注入Zr-4合金后的电化学腐蚀行为 | 第141-143页 |
| ·三次极化测量后注入样品的腐蚀形貌(SEM) | 第143-144页 |
| ·钼离子注入Zr-4合金后的电化学腐蚀行为机理 | 第144-145页 |
| ·本章小结 | 第145-146页 |
| 第六章 锆自离子和高能氪离子轰击对锆合金耐蚀性的影响 | 第146-171页 |
| ·锆自离子轰击对纯锆耐蚀性的影响 | 第146-156页 |
| ·锆自离子轰击纯锆表面后各元素的价态 | 第146-147页 |
| ·锆自离子轰击纯锆样品后锆氧元素的深度分布 | 第147-148页 |
| ·锆自离子轰击纯锆后的电化学腐蚀行为 | 第148-151页 |
| ·锆自离子轰击纯锆后的电化学腐蚀行为机理 | 第151-152页 |
| ·自离子轰击纯锆样品的小角X-射线衍射(GAXRD)分析 | 第152-154页 |
| ·锆自离子轰击纯锆样品的慢正电子谱研究 | 第154-156页 |
| ·锆自离子轰击对Zr-4合金耐蚀性的影响 | 第156-162页 |
| ·锆自离子轰击Zr-4合金后表面各元素的价态 | 第156-157页 |
| ·锆自离子轰击Zr-4合金后锆氧元素的深度分布 | 第157-158页 |
| ·锆离子轰击Zr-4合金后的电化学腐蚀行为及机理 | 第158-160页 |
| ·锆离子轰击锆-4样品的慢正电子谱研究 | 第160-162页 |
| ·高能氪离子轰击对纯锆耐蚀性的影响 | 第162-170页 |
| ·氪离子轰击纯锆表面后各元素的价态 | 第162-165页 |
| ·氪离子轰击纯锆后氧化膜的深度分布 | 第165-166页 |
| ·氪离子轰击纯锆样品的微观结构特征 | 第166-167页 |
| ·氪离子轰击纯锆样品的电化学行为 | 第167-169页 |
| ·氪离子轰击纯锆样品的腐蚀行为机理 | 第169-170页 |
| ·本章小结 | 第170-171页 |
| 第七章 离子注入对锆合金抗高温氧化性能的影响 | 第171-182页 |
| ·稀土金属镧离子注入对纯锆抗高温氧化性能的影响 | 第171-176页 |
| ·镧离子注入纯锆后样品的空气氧化增重曲线 | 第171-172页 |
| ·表层各元素的AES谱 | 第172-173页 |
| ·氧化膜的成分与价态 | 第173-174页 |
| ·GAXRD观察La注入后ZrO2相转变 | 第174-175页 |
| ·镧离子注入提高纯锆抗高温氧化性能的机理 | 第175-176页 |
| ·难熔金属钼离子注入对纯锆高温氧化性能的影响 | 第176-180页 |
| ·钼离子注入纯锆后样品的空气氧化增重曲线 | 第176页 |
| ·空气氧化后氧化膜的成分与价态 | 第176-178页 |
| ·钼离子注入样品氧化前的GAXRD谱 | 第178-180页 |
| ·钼离子注入纯锆高温氧化行为机理 | 第180页 |
| ·本章小结 | 第180-182页 |
| 结论 | 第182-184页 |
| 参考文献 | 第184-193页 |
| 致谢及声明 | 第193-194页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的论文 | 第194-198页 |
