第一章 绪论 | 第1-17页 |
·引言 | 第8-9页 |
·高功率激光器谐振腔内偏振特性的研究概况 | 第9-10页 |
·高功率激光器腔内用高反射镜的研究概况 | 第10-12页 |
·高功率激光器用高反射镜的反射率 | 第10-11页 |
·高功率激光器用高反射镜的损伤阈值 | 第11-12页 |
·高反射薄膜位相延迟镜的研究概况 | 第12-15页 |
·本论文的研究目的及意义 | 第15页 |
·本论文的主要研究内容 | 第15-17页 |
第二章 高功率化学氧碘激光器腔内的偏振特性分析 | 第17-27页 |
·琼斯矩阵理论 | 第17-18页 |
·UR90腔内的偏振特性分析 | 第18-20页 |
·1315nm角立方反射镜的偏振特性分析 | 第20-24页 |
·1315nm高反射镜的特性 | 第20-21页 |
·角立方反射镜的偏振特性分析 | 第21-24页 |
·采用角立方反射镜的一种新型环行非稳腔的偏振特性分析 | 第24-26页 |
·小结 | 第26-27页 |
第三章 高功率化学氧碘激光器腔内偏振态控制的必要性分析 | 第27-39页 |
·光学薄膜的矩阵理论 | 第27-33页 |
·单一界面的反射率 | 第27-30页 |
·单层薄膜的反射率 | 第30-32页 |
·多层膜系的反射率 | 第32-33页 |
·斜入射高反射镜的反射率与光的偏振特性间的关系 | 第33-34页 |
·斜入射高反射镜的吸收损耗与光的偏振特性间的关系 | 第34-38页 |
·高功率氧碘激光器的输出窗口可以用布儒斯特窗代替 | 第38页 |
·小结 | 第38-39页 |
第四章 高功率化学氧碘激光器腔内的偏振态控制 | 第39-45页 |
·高功率化学氧碘激光器驻波型负支共焦非稳腔内的偏振态控制 | 第39-42页 |
·高功率化学氧碘激光器UR90束旋转环型非稳腔内的偏振态控制 | 第42-44页 |
·小结 | 第44-45页 |
第五章 环行腔内倒向波的抑制 | 第45-50页 |
·倒向波抑制的基本理论 | 第45-46页 |
·倒向波抑制中的偏振状态控制 | 第46-49页 |
·抑制镜和后向散射效应 | 第47-48页 |
·对抑制比的进一步讨论 | 第48页 |
·UR90腔中的倒向波抑制举例 | 第48-49页 |
·小结 | 第49-50页 |
第六章 高反射位相延迟镜的膜系设计 | 第50-62页 |
·膜系设计的基本理论 | 第51-52页 |
·传统的膜系设计 | 第52-53页 |
·倍频设计的基本理论 | 第53-54页 |
·光学薄膜中的偏振效应 | 第54-56页 |
·高功率化学氧碘激光器腔内用高反射位相延迟镜的膜系设计 | 第56-61页 |
·垂直入射高反射镜的膜系设计 | 第56-58页 |
·45°入射180°高反射位相延迟镜 | 第58页 |
·45°入射90°高反射位相延迟镜 | 第58-61页 |
·小结 | 第61-62页 |
第七章 高功率化学氧碘激光器腔内用高反射位相延迟镜的工艺研究 | 第62-75页 |
·高功率激光薄膜的工艺研究 | 第62-72页 |
·制备手段 | 第62-65页 |
·高功率激光薄膜的制备工艺 | 第65-72页 |
·超光滑基底的加工 | 第65-66页 |
·基底的清洗 | 第66页 |
·镀膜材料的选择 | 第66-67页 |
·工艺参数 | 第67-69页 |
·膜厚监控 | 第69-71页 |
·高反射位相延迟镜的镀后处理 | 第71-72页 |
·高反射位相延迟镜的镀制 | 第72-74页 |
·小结 | 第74-75页 |
第八章 高反射位相延迟镜的测量 | 第75-86页 |
·高反射位相延迟镜的位相延迟测量 | 第75-80页 |
·椭圆偏振仪的工作原理 | 第75-77页 |
·M-2000UI型椭圆偏振仪 | 第77-78页 |
·高反射镜的位相延迟测试结果 | 第78-80页 |
·高反射位相延迟镜的反射率测量 | 第80-82页 |
·薄膜的附着力测量 | 第82页 |
·误差分析 | 第82-85页 |
·薄膜厚度的影响 | 第83-84页 |
·膜层折射率的影响 | 第84-85页 |
·入射角的影响 | 第85页 |
·小结 | 第85-86页 |
第九章 全文总结及对未来工作的展望 | 第86-89页 |
·论文的研究成果 | 第86-87页 |
·具有创新意义的工作 | 第87页 |
·对未来工作的展望 | 第87-89页 |
参考文献 | 第89-96页 |
在读期间的发表论文 | 第96-97页 |
致谢 | 第97-98页 |