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高功率化学氧碘激光器腔内偏振态控制与高反射位相延迟镜的研究

第一章 绪论第1-17页
   ·引言第8-9页
   ·高功率激光器谐振腔内偏振特性的研究概况第9-10页
   ·高功率激光器腔内用高反射镜的研究概况第10-12页
     ·高功率激光器用高反射镜的反射率第10-11页
     ·高功率激光器用高反射镜的损伤阈值第11-12页
   ·高反射薄膜位相延迟镜的研究概况第12-15页
   ·本论文的研究目的及意义第15页
   ·本论文的主要研究内容第15-17页
第二章 高功率化学氧碘激光器腔内的偏振特性分析第17-27页
   ·琼斯矩阵理论第17-18页
   ·UR90腔内的偏振特性分析第18-20页
   ·1315nm角立方反射镜的偏振特性分析第20-24页
     ·1315nm高反射镜的特性第20-21页
     ·角立方反射镜的偏振特性分析第21-24页
   ·采用角立方反射镜的一种新型环行非稳腔的偏振特性分析第24-26页
   ·小结第26-27页
第三章 高功率化学氧碘激光器腔内偏振态控制的必要性分析第27-39页
   ·光学薄膜的矩阵理论第27-33页
     ·单一界面的反射率第27-30页
     ·单层薄膜的反射率第30-32页
     ·多层膜系的反射率第32-33页
   ·斜入射高反射镜的反射率与光的偏振特性间的关系第33-34页
   ·斜入射高反射镜的吸收损耗与光的偏振特性间的关系第34-38页
   ·高功率氧碘激光器的输出窗口可以用布儒斯特窗代替第38页
   ·小结第38-39页
第四章 高功率化学氧碘激光器腔内的偏振态控制第39-45页
   ·高功率化学氧碘激光器驻波型负支共焦非稳腔内的偏振态控制第39-42页
   ·高功率化学氧碘激光器UR90束旋转环型非稳腔内的偏振态控制第42-44页
   ·小结第44-45页
第五章 环行腔内倒向波的抑制第45-50页
   ·倒向波抑制的基本理论第45-46页
   ·倒向波抑制中的偏振状态控制第46-49页
     ·抑制镜和后向散射效应第47-48页
     ·对抑制比的进一步讨论第48页
     ·UR90腔中的倒向波抑制举例第48-49页
   ·小结第49-50页
第六章 高反射位相延迟镜的膜系设计第50-62页
   ·膜系设计的基本理论第51-52页
   ·传统的膜系设计第52-53页
   ·倍频设计的基本理论第53-54页
   ·光学薄膜中的偏振效应第54-56页
   ·高功率化学氧碘激光器腔内用高反射位相延迟镜的膜系设计第56-61页
     ·垂直入射高反射镜的膜系设计第56-58页
     ·45°入射180°高反射位相延迟镜第58页
     ·45°入射90°高反射位相延迟镜第58-61页
   ·小结第61-62页
第七章 高功率化学氧碘激光器腔内用高反射位相延迟镜的工艺研究第62-75页
   ·高功率激光薄膜的工艺研究第62-72页
     ·制备手段第62-65页
     ·高功率激光薄膜的制备工艺第65-72页
       ·超光滑基底的加工第65-66页
       ·基底的清洗第66页
       ·镀膜材料的选择第66-67页
       ·工艺参数第67-69页
       ·膜厚监控第69-71页
       ·高反射位相延迟镜的镀后处理第71-72页
   ·高反射位相延迟镜的镀制第72-74页
   ·小结第74-75页
第八章 高反射位相延迟镜的测量第75-86页
   ·高反射位相延迟镜的位相延迟测量第75-80页
     ·椭圆偏振仪的工作原理第75-77页
     ·M-2000UI型椭圆偏振仪第77-78页
     ·高反射镜的位相延迟测试结果第78-80页
   ·高反射位相延迟镜的反射率测量第80-82页
   ·薄膜的附着力测量第82页
   ·误差分析第82-85页
     ·薄膜厚度的影响第83-84页
     ·膜层折射率的影响第84-85页
     ·入射角的影响第85页
   ·小结第85-86页
第九章 全文总结及对未来工作的展望第86-89页
   ·论文的研究成果第86-87页
   ·具有创新意义的工作第87页
   ·对未来工作的展望第87-89页
参考文献第89-96页
在读期间的发表论文第96-97页
致谢第97-98页

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