首页--数理科学和化学论文--物理学论文--固体物理学论文--薄膜物理学论文

提高椭偏测量中薄膜参数精度的研究

第一章 前言第1-28页
 §1.1 椭偏测量术的重要性第8-11页
 §1.2 椭偏测量术概论第11-17页
  §1.2.1 椭偏测量术的产生第12页
  §1.2.2 椭偏测量术的发展第12-15页
  §1.2.3 椭偏测量术的发展趋势第15页
  §1.2.4 椭偏测量术的特点第15-16页
  §1.2.5 椭偏测量术的应用第16-17页
 §1.3 椭偏测量术的难点第17-18页
 §1.4 本论文研究的意义及主要内容第18-20页
 参考文献第20-28页
第二章 反射椭偏法测量的基本原理第28-36页
 §2.1 反射系数比ρ第28-32页
  §2.1.1 光在两种均匀、各向同性介质分界面上的反射第28-30页
  §2.1.2 光在介质薄膜上的反射第30-32页
 §2.2 椭偏参数ψ和△第32页
 §2.3 反射系数比ρ中椭偏参数(ψ和△)的测定第32-35页
  §2.3.1 等幅椭偏光的获得第33-34页
  §2.3.2 反射光的检测及椭偏参数(ψ和△)的测量公式第34-35页
 §2.4 小结第35页
 参考文献第35-36页
第三章 模型的有效选取第36-47页
 §3.1 有效选取模型的方法第36-38页
  §3.1.1 模型选取的重要性第36-38页
  §3.1.2 有效选取模型的方法第38页
 §3.2 椭偏参数灵敏区域的选取第38-44页
  §3.2.1 反射系数比ρ与厚度的关系第38-41页
  §3.2.2 椭偏参数△及其对厚度的差分δ△随厚度d的变化情况第41-44页
   §3.2.2.1 椭偏参数随薄膜参数变化时的灵敏度比较第41-42页
   §3.2.2.2 椭偏参数△及其差分随厚度d的变化情况第42-44页
 §3.3 选取模型时应注意入射角参数的选择第44-45页
 §3.4 小结第45页
 参考文献第45-47页
第四章 模拟退火算法概述及其改进第47-58页
 §4.1 椭偏数据处理的发展第47-48页
 §4.2 模拟退火算法概述第48-51页
  §4.2.1 模拟退火算法的思想起源及其基本原理第48-49页
  §4.2.2 椭偏测量中的模拟退火算法基本原理第49-50页
  §4.2.3 模拟退火中参数的选择第50-51页
 §4.3 模拟退火算法的改进第51-54页
  §4.3.1 改进算法的基本思想第51-53页
  §4.3.2 改进后的模拟退火算法的模拟研究第53-54页
 §4.4 小结第54-55页
 参考文献第55-58页
第五章 正确使用多次测量法提高椭偏测量精度第58-68页
 §5.1 椭偏测量的复杂性研究第58-62页
  §5.1.1 利用(ψ和△)—(n,d)作图关系直接求取特殊薄膜参数的复杂性研究第58-60页
  §5.1.2 椭偏反演算法中评价函数随薄膜参数的复杂变化关系第60-62页
 §5.2 多次测量及其数据分析第62-64页
 §5.3 分析与结论第64-65页
 §5.4 小结第65页
 参考文献第65-68页
第六章 利用内外反射法测量吸收薄膜第68-87页
 §6.1 多角度入射法第68-71页
 §6.2 内外反射测量法的基本原理第71-73页
  §6.2.1 内反射测量的基本原理第72-73页
  §6.2.2 内外反射测量法的实验操作第73页
 §6.3 内外反射测量法的理论研究第73-80页
  §6.3.1 内外反射测量法对吸收性较强薄膜的研究第74-79页
  §6.3.2 内外反射测量法对吸收性较弱厚膜的研究第79-80页
 §6.4 内外反射测量法与多角度入射法的比较第80-82页
 §6.5 实验样品的测定第82-83页
 §6.6 内外反射测量法需要注意的问题第83-85页
 §6.7 小结第85页
 参考文献第85-87页
第七章 总结第87-89页
致谢第89-90页
附录第90-91页
声明第91页

论文共91页,点击 下载论文
上一篇:基于滑模控制和H_∞控制理论的结构振动控制研究
下一篇:大功率全桥移相软开关电源的研究