第一章 前言 | 第1-28页 |
§1.1 椭偏测量术的重要性 | 第8-11页 |
§1.2 椭偏测量术概论 | 第11-17页 |
§1.2.1 椭偏测量术的产生 | 第12页 |
§1.2.2 椭偏测量术的发展 | 第12-15页 |
§1.2.3 椭偏测量术的发展趋势 | 第15页 |
§1.2.4 椭偏测量术的特点 | 第15-16页 |
§1.2.5 椭偏测量术的应用 | 第16-17页 |
§1.3 椭偏测量术的难点 | 第17-18页 |
§1.4 本论文研究的意义及主要内容 | 第18-20页 |
参考文献 | 第20-28页 |
第二章 反射椭偏法测量的基本原理 | 第28-36页 |
§2.1 反射系数比ρ | 第28-32页 |
§2.1.1 光在两种均匀、各向同性介质分界面上的反射 | 第28-30页 |
§2.1.2 光在介质薄膜上的反射 | 第30-32页 |
§2.2 椭偏参数ψ和△ | 第32页 |
§2.3 反射系数比ρ中椭偏参数(ψ和△)的测定 | 第32-35页 |
§2.3.1 等幅椭偏光的获得 | 第33-34页 |
§2.3.2 反射光的检测及椭偏参数(ψ和△)的测量公式 | 第34-35页 |
§2.4 小结 | 第35页 |
参考文献 | 第35-36页 |
第三章 模型的有效选取 | 第36-47页 |
§3.1 有效选取模型的方法 | 第36-38页 |
§3.1.1 模型选取的重要性 | 第36-38页 |
§3.1.2 有效选取模型的方法 | 第38页 |
§3.2 椭偏参数灵敏区域的选取 | 第38-44页 |
§3.2.1 反射系数比ρ与厚度的关系 | 第38-41页 |
§3.2.2 椭偏参数△及其对厚度的差分δ△随厚度d的变化情况 | 第41-44页 |
§3.2.2.1 椭偏参数随薄膜参数变化时的灵敏度比较 | 第41-42页 |
§3.2.2.2 椭偏参数△及其差分随厚度d的变化情况 | 第42-44页 |
§3.3 选取模型时应注意入射角参数的选择 | 第44-45页 |
§3.4 小结 | 第45页 |
参考文献 | 第45-47页 |
第四章 模拟退火算法概述及其改进 | 第47-58页 |
§4.1 椭偏数据处理的发展 | 第47-48页 |
§4.2 模拟退火算法概述 | 第48-51页 |
§4.2.1 模拟退火算法的思想起源及其基本原理 | 第48-49页 |
§4.2.2 椭偏测量中的模拟退火算法基本原理 | 第49-50页 |
§4.2.3 模拟退火中参数的选择 | 第50-51页 |
§4.3 模拟退火算法的改进 | 第51-54页 |
§4.3.1 改进算法的基本思想 | 第51-53页 |
§4.3.2 改进后的模拟退火算法的模拟研究 | 第53-54页 |
§4.4 小结 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-58页 |
第五章 正确使用多次测量法提高椭偏测量精度 | 第58-68页 |
§5.1 椭偏测量的复杂性研究 | 第58-62页 |
§5.1.1 利用(ψ和△)—(n,d)作图关系直接求取特殊薄膜参数的复杂性研究 | 第58-60页 |
§5.1.2 椭偏反演算法中评价函数随薄膜参数的复杂变化关系 | 第60-62页 |
§5.2 多次测量及其数据分析 | 第62-64页 |
§5.3 分析与结论 | 第64-65页 |
§5.4 小结 | 第65页 |
参考文献 | 第65-68页 |
第六章 利用内外反射法测量吸收薄膜 | 第68-87页 |
§6.1 多角度入射法 | 第68-71页 |
§6.2 内外反射测量法的基本原理 | 第71-73页 |
§6.2.1 内反射测量的基本原理 | 第72-73页 |
§6.2.2 内外反射测量法的实验操作 | 第73页 |
§6.3 内外反射测量法的理论研究 | 第73-80页 |
§6.3.1 内外反射测量法对吸收性较强薄膜的研究 | 第74-79页 |
§6.3.2 内外反射测量法对吸收性较弱厚膜的研究 | 第79-80页 |
§6.4 内外反射测量法与多角度入射法的比较 | 第80-82页 |
§6.5 实验样品的测定 | 第82-83页 |
§6.6 内外反射测量法需要注意的问题 | 第83-85页 |
§6.7 小结 | 第85页 |
参考文献 | 第85-87页 |
第七章 总结 | 第87-89页 |
致谢 | 第89-90页 |
附录 | 第90-91页 |
声明 | 第91页 |