中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-11页 |
第一章 引言 | 第11-41页 |
·研究背景及目的、意义 | 第11-14页 |
·文献综述 | 第14-39页 |
·化学气相沉积金刚石膜技术概况 | 第14-26页 |
·化学气相沉积金刚石膜技术水平 | 第26-28页 |
·高质量金刚石膜-单晶膜、高度取向膜(准单晶膜)研究进展 | 第28-33页 |
·金刚石膜辐射剂量计研究 | 第33-39页 |
·本论文的研究设想及内容 | 第39-41页 |
第二章 高纯、高度取向金刚石薄膜研究 | 第41-65页 |
·引言 | 第41-42页 |
·实验装置及步骤 | 第42-49页 |
·实验装置 | 第42-44页 |
·实验方法设计及过程 | 第44-49页 |
·实验结果及讨论 | 第49-63页 |
·金刚石薄膜中晶粒取向性的控制 | 第49-54页 |
·金刚石薄膜中非金刚石相的控制 | 第54-57页 |
·形核-刻蚀-生长工艺和生长-刻蚀-生长循环沉积工艺对薄膜的取向性及其相纯度的影响 | 第57-63页 |
·本章小结 | 第63-65页 |
第三章 原位氧等离子体处理对金刚石薄膜表层结构及其电阻率的影响 | 第65-75页 |
·引言 | 第65页 |
·实验方法 | 第65-66页 |
·金刚石膜制备 | 第65页 |
·原位氧等离子体处理 | 第65-66页 |
·薄膜电阻率测量 | 第66页 |
·表面形貌及表层元素化合态分析、失重分析 | 第66页 |
·结果与讨论 | 第66-73页 |
·原位氧等离子处理对金刚石薄膜电阻率的影响 | 第66-68页 |
·原位氧等离子处理对膜的质量,形貌和表面C化合态及其含量的影响 | 第68-73页 |
·本章小结 | 第73-75页 |
第四章 金刚石薄膜辐射剂量计的设计、制作及性能特点研究 | 第75-87页 |
·引言 | 第75页 |
·金刚石膜辐射剂量计的设计 | 第75-77页 |
·金刚石膜辐射剂量计的制作 | 第77-81页 |
·电极材料的选择 | 第78-79页 |
·电极的制备 | 第79-80页 |
·剂量计的制备 | 第80页 |
·电极接触特性研究 | 第80-81页 |
·金刚石薄膜辐射剂量计的光电响应特性研究 | 第81-86页 |
·实验方法 | 第81-83页 |
·实验结果及讨论 | 第83-86页 |
·本章小结 | 第86-87页 |
第五章 金刚石薄膜的成分结构对其电学性能及剂量计性能的影响 | 第87-92页 |
·引言 | 第87页 |
·实验方法 | 第87页 |
·实验结果及讨论 | 第87-91页 |
·金刚石薄膜组成和结构对其电阻率的影响 | 第87-89页 |
·金刚石薄膜组成和结构对剂量计性能的影响 | 第89-91页 |
·本章小结 | 第91-92页 |
第六章 金刚石薄膜导电机理研究 | 第92-95页 |
·引言 | 第92页 |
·实验方法 | 第92页 |
·实验结果及讨论 | 第92-94页 |
·本章小结 | 第94-95页 |
第七章 全文总结 | 第95-99页 |
·主要结论 | 第95-97页 |
·本论文创新点 | 第97页 |
·有待深入研究的问题 | 第97-99页 |
声明 | 第99-100页 |
致谢 | 第100-101页 |
附录 | 第101-102页 |
参考文献 | 第102-114页 |