| 中文摘要 | 第1页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 第一章 平面磁控溅射的发展和现状——本课题的研究背景和意义 | 第5-10页 |
| 参考文献 | 第8-10页 |
| 第二章 溅射制膜和常用表征手段 | 第10-23页 |
| 2．1． 气体中的放电 | 第10-12页 |
| 2．2 溅射原理 | 第12-17页 |
| 2．3 反应溅射原理 | 第17-19页 |
| 2．4 膜厚测量 | 第19-20页 |
| 2．5 结构表征 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-23页 |
| 第三章 带电粒子在电场和磁场中的运动 | 第23-31页 |
| 3．1 引言 | 第23页 |
| 3．2 带电粒子在恒定磁场中的运动 | 第23-25页 |
| 3．3 带电粒子在恒定电场永恒定磁场中的运动 | 第25-27页 |
| 3．4 带电粒子在随空间坐标缓变的磁场中的运动 | 第27-31页 |
| 第四章 外加磁场对磁控溅射的影响 | 第31-50页 |
| 4．1 样品的制备与表征 | 第31页 |
| 4．2 外加磁场对溅射的影响 | 第31-39页 |
| 4．3 外加磁铁的磁场大小对沉积速率的影响 | 第39-43页 |
| 4．4 外加磁场产生的膜面内的厚度梯度 | 第43-46页 |
| 4．5 外加磁场对靶刻蚀均匀性的改善 | 第46-49页 |
| 参考文献 | 第49-50页 |
| 第五章 总结和展望 | 第50-51页 |
| 附录： 攻读学位期间的科研成果 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |