| 第一章 绪论 | 第1-19页 |
| 1．1 Ni-MH电池 | 第8-9页 |
| 1．2 镍氢电池工作原理 | 第9-11页 |
| 1．2．1 电池反应 | 第9-10页 |
| 1．2．2 贮氢电极的电极过程动力学 | 第10-11页 |
| 1．3 贮氢合金的基本性质 | 第11-13页 |
| 1．3．1 贮氢合金的分类与基本性能 | 第11-13页 |
| 1．4 贮氢合金吸放氢的相转变 | 第13-15页 |
| 1．4．1 贮氢合金吸放氢的相平衡 | 第13-15页 |
| 1．5 AB_5型稀土系贮氢电极合金研究概况 | 第15-16页 |
| 1．5．1 AB_5型稀土系贮氢电极合金研究概述 | 第15-16页 |
| 1．6 本研究的研究内容及技术路线 | 第16-19页 |
| 1．6．1 本研究的研究内容 | 第16-18页 |
| 1．6．2 技术路线 | 第18-19页 |
| 第二章 文献综述-热处理对贮氢合金电化学性能的影响 | 第19-28页 |
| 2．1 合金的成分和热处理对显微组织和电化学性能的影响 | 第19-22页 |
| 2．2 热处理对合金的电化学性能影响 | 第22-28页 |
| 2．2．1 P-C-T曲线 | 第22-23页 |
| 2．2．2 活化性能 | 第23-24页 |
| 2．2．3 放电容量 | 第24页 |
| 2．2．4 高倍率放电性能 | 第24-25页 |
| 2．2．5 循环稳定性 | 第25-26页 |
| 2．2．6 放电电位平台特性 | 第26页 |
| 2．2．7 温度特性 | 第26-28页 |
| 第三章 实验材料与实验方法 | 第28-34页 |
| 3．1 贮氢合金粉的制备 | 第28-30页 |
| 3．1．1 原材料成分 | 第28页 |
| 3．1．2 合金熔炼与浇注 | 第28-29页 |
| 3．1．3 贮氢合金粉的制备 | 第29页 |
| 3．1．4 热处理合金的制备 | 第29-30页 |
| 3．2 电化学性能测试方法 | 第30-31页 |
| 3．3 电化学法测试P-C-T曲线的原理与方法 | 第31-33页 |
| 3．3．1 电化学法测试P-C-T曲线的原理 | 第31-32页 |
| 3．3．2 电化学法测定P-C-T曲线的方法 | 第32-33页 |
| 3．4 仪器分析 | 第33-34页 |
| 3．4．1 电镜分析和X射线衍射分析 | 第33页 |
| 3．4．2 DTA分析 | 第33-34页 |
| 第四章 400℃热处理对贮氢合金电化学性能的影响 | 第34-40页 |
| 4．1 0．2C充放电时活化性能与最大放电容量 | 第34-35页 |
| 4．2 高倍率放电性能 | 第35-36页 |
| 4．3 循环稳定性 | 第36-37页 |
| 4．4 不同温度的放电容量 | 第37-38页 |
| 4．5 X-衍射分析 | 第38-40页 |
| 第五章 600℃热处理对贮氢合金电化学性能的影响 | 第40-46页 |
| 5．1 热处理对合金电化学性能的影响 | 第40-42页 |
| 5．1．1 最大放电容量 | 第40-41页 |
| 5．1．2 循环稳定性 | 第41页 |
| 5．1．3 P-C-T曲线特性 | 第41-42页 |
| 5．2 微观分析 | 第42-46页 |
| 5．2．1 X射线衍射分析 | 第42-44页 |
| 5．2．2 SEM分析 | 第44页 |
| 5．2．3 差热分析 | 第44-46页 |
| 第六章 900℃热处理对贮氢合金电化学性能的影响 | 第46-52页 |
| 6．1 电化学性能 | 第46-48页 |
| 6．1．1 放电容量和循环稳定性 | 第46-47页 |
| 6．1．2 高倍率放电性能 | 第47-48页 |
| 6．1．3 不同温度的放电容量 | 第48页 |
| 6．2 P-C-T曲线 | 第48-49页 |
| 6．3 X-射线衍射（XRD）分析 | 第49-52页 |
| 第七章 1100℃热处理对贮氢合金电化学性能的影响 | 第52-58页 |
| 7．1 放电容量和循环稳定性 | 第52-54页 |
| 7．2 高倍率放电性能 | 第54-55页 |
| 7．3 P-C-T曲线 | 第55-58页 |
| 第八章 热处理温度对贮氢合金电化学性能的影响及微观机制分析 | 第58-66页 |
| 8．1 实验结果与分析 | 第58-61页 |
| 8．1．1 0．4C充放电电化学性能 | 第58-59页 |
| 8．1．2 高倍率放电性能 | 第59页 |
| 8．1．3 P-C-T性能 | 第59-60页 |
| 8．1．4 分析讨论 | 第60-61页 |
| 8．2 微观分析 | 第61-66页 |
| 8．2．1 X射线衍射（XRD）分析 | 第61-63页 |
| 8．2．2 DTA分析 | 第63-65页 |
| 8．2．3 SEM电镜分析 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
