低能耗铝合金微弧氧化技术研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| 第1章 概述 | 第12-26页 |
| ·微弧氧化技术发展 | 第12-14页 |
| ·微弧氧化现象及原理 | 第14-16页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的性能特点 | 第16-17页 |
| ·影响微弧氧化陶瓷层性能的因素 | 第17-20页 |
| ·电解液的影响 | 第17-18页 |
| ·原材料成分的影响 | 第18-19页 |
| ·放电参数的影响 | 第19页 |
| ·工艺条件的影响 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化技术的能耗研究 | 第20-22页 |
| ·微弧氧化技术在船舶运输行业的应用 | 第22-23页 |
| ·选题的目的与意义 | 第23-24页 |
| ·本课题的研究内容及技术路线 | 第24-26页 |
| 第2章 试验设备与原理 | 第26-32页 |
| ·试验装置图 | 第26-27页 |
| ·脉冲电源 | 第27-28页 |
| ·扫描电镜 | 第28页 |
| ·厚度检测 | 第28页 |
| ·硬度检测 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射仪 | 第29页 |
| ·粗糙度的测定 | 第29-30页 |
| ·信号采集设备 | 第30页 |
| ·其它仪表 | 第30-31页 |
| ·电能表 | 第30-31页 |
| ·交直流钳形表 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 微弧氧化试验及方法 | 第32-41页 |
| ·试样材料 | 第32页 |
| ·微弧氧化表面处理工艺 | 第32-33页 |
| ·电解液的选取 | 第33-35页 |
| ·正交化试验法及步骤 | 第35-37页 |
| ·虚拟仪器技术的应用 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 微弧氧化影响因素的分析 | 第41-68页 |
| ·电解液的优化 | 第41-45页 |
| ·成膜厚度分析 | 第41-44页 |
| ·能耗分析 | 第44-45页 |
| ·电信号参数的优化 | 第45-49页 |
| ·无冷却液时 | 第46-47页 |
| ·有冷却液时 | 第47-49页 |
| ·放电波形的分析 | 第49-56页 |
| ·不同添加剂对放电波形的影响 | 第50-53页 |
| ·不同电参数对放电波形的影响 | 第53-55页 |
| ·其它因素对放电波形的影响 | 第55-56页 |
| ·成膜速率的分析 | 第56-59页 |
| ·添加剂对成膜速率的影响 | 第56-57页 |
| ·氧化时间对成膜速率的影响 | 第57-58页 |
| ·温度对成膜速率的影响 | 第58-59页 |
| ·单位能耗的分析 | 第59-61页 |
| ·氧化时间对单位能耗的影响 | 第59-60页 |
| ·电压对单位能耗的影响 | 第60-61页 |
| ·温度对单位能耗的影响 | 第61页 |
| ·微弧氧化过程中放电火花形貌特征分析 | 第61-63页 |
| ·电信号波形延迟原因的探讨 | 第63-65页 |
| ·覆盖层厚度的影响规律模型的建立 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 微弧氧化膜层性能方面的分析 | 第68-74页 |
| ·膜层硬度的分析 | 第68-69页 |
| ·膜层粗糙度的分析 | 第69-70页 |
| ·膜层表面形貌 | 第70-71页 |
| ·膜层表面相组成结构的分析 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 攻读学位期间公开发表论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 研究生履历 | 第81页 |
