| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-24页 |
| ·研究背景及意义 | 第10-11页 |
| ·ZnO薄膜的国内外研究概况 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜的晶体结构、性质及应用 | 第12-18页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第12-14页 |
| ·ZnO薄膜的光电性质及应用 | 第14-15页 |
| ·ZnO薄膜的压电性质及应用 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜的气敏性质及应用 | 第16-17页 |
| ·ZnO薄膜的压敏性质及应用 | 第17-18页 |
| ·ZnO薄膜制备方法 | 第18-24页 |
| ·磁控溅射法(Magnetron Sputtering) | 第18-19页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第20-21页 |
| ·喷雾热解法(Spray Pyrolysis) | 第21页 |
| ·分子束外延(MEB) | 第21-22页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第22-24页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜试验 | 第24-38页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的特点 | 第24-25页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的原理 | 第25-27页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的基本原理 | 第25-26页 |
| ·ZnO薄膜的形成原理 | 第26-27页 |
| ·实验原料及仪器设备 | 第27-29页 |
| ·实验原料 | 第27-28页 |
| ·实验器材及设备 | 第28-29页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第29-33页 |
| ·ZnO薄膜的制备工艺流程 | 第29页 |
| ·溶胶的配制 | 第29-30页 |
| ·基板的选择与清洗 | 第30-31页 |
| ·浸渍提拉法镀膜 | 第31页 |
| ·旋转涂敷法镀膜 | 第31-32页 |
| ·薄膜干燥、烧结及退火处理 | 第32-33页 |
| ·分析测试方法 | 第33-38页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微镜分析(SEM) | 第34页 |
| ·X射线能谱分析(EDS) | 第34-36页 |
| ·薄膜光学性能测定 | 第36页 |
| ·薄膜电阻率测定 | 第36-38页 |
| 第三章 ZnO掺杂的理论与计算 | 第38-48页 |
| ·能带理论与ZnO掺杂的电学原理 | 第38-42页 |
| ·ZnO掺杂的第一性原理计算 | 第42-48页 |
| ·第一性原理简介 | 第42-44页 |
| ·计算结果与分析 | 第44-48页 |
| 第四章 制膜工艺对znO薄膜性能的影响分析 | 第48-72页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜性能的影响 | 第48-54页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第48-49页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜结构的影响 | 第49-51页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜导电性的影响 | 第51-53页 |
| ·掺杂离子及浓度对薄膜透射光谱的影响 | 第53-54页 |
| ·预热处理温度及退火温度对薄膜性能的影响 | 第54-61页 |
| ·预热处理温度对薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
| ·退火温度对薄膜表面形貌的影响 | 第56-58页 |
| ·退火温度对薄膜结构的影响 | 第58-59页 |
| ·退火温度对薄膜导电性的影响 | 第59-61页 |
| ·退火温度对薄膜透光性的影响 | 第61页 |
| ·镀膜层数对薄膜性能的影响 | 第61-63页 |
| ·镀膜层数对薄膜导电性的影响 | 第61-62页 |
| ·镀膜层数对薄膜透光性的影响 | 第62-63页 |
| ·其它因素对薄膜性能的影响 | 第63-64页 |
| ·浸渍提拉法与旋转涂敷法对薄膜表面形貌的影响 | 第63-64页 |
| ·ZnO薄膜的工艺参数优化 | 第64-68页 |
| ·参数优化 | 第64-66页 |
| ·优化结果验证 | 第66-68页 |
| ·ZnO:Al薄膜表面形貌与导电性的关系研究 | 第68-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| ·结论 | 第72-73页 |
| ·存在的问题及以后的研究方向 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-82页 |
| 作者在攻读学位期间发表的学术论文 | 第82页 |