| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 致谢 | 第9-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-28页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·纳米材料的概念和分类 | 第14-15页 |
| ·纳米材料的概念 | 第14-15页 |
| ·纳米材料的分类 | 第15页 |
| ·纳米材料的基本特性 | 第15-17页 |
| ·小尺寸效应 | 第15页 |
| ·表面效应 | 第15-16页 |
| ·量子尺寸效应 | 第16-17页 |
| ·介电限域效应 | 第17页 |
| ·库仑堵塞和量子隧穿 | 第17页 |
| ·准一维纳米材料的制备方法 | 第17-24页 |
| ·气相法 | 第18-21页 |
| ·液相法 | 第21-23页 |
| ·模板法 | 第23-24页 |
| ·准一维纳米材料的性质 | 第24-26页 |
| ·热稳定性 | 第24-25页 |
| ·传感性质 | 第25页 |
| ·光学特性 | 第25页 |
| ·半导体纳米线的激光发射 | 第25页 |
| ·光电导性和光学开关的特性 | 第25-26页 |
| ·准一维纳米材料的发展趋势 | 第26-27页 |
| ·材料设计 | 第26页 |
| ·制备技术 | 第26-27页 |
| ·本论文的选题背景与研究内容 | 第27-28页 |
| 第二章 实验装置、原理、操作规程以及样品的表征 | 第28-32页 |
| ·实验装置简介 | 第28-30页 |
| ·试验设备简介 | 第28页 |
| ·实验装置示意图 | 第28页 |
| ·实验原理 | 第28-29页 |
| ·实验操作规程 | 第29页 |
| ·注意事项 | 第29-30页 |
| ·准一维纳米材料的表征方法 | 第30-32页 |
| ·X－射线衍射（XRD） | 第30页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第30页 |
| ·透射电子显微镜（TEM） | 第30-31页 |
| ·光学特性分析－光致发光光谱（Photoluminescence） | 第31-32页 |
| 第三章 ITO 衬底上 Sn 掺杂ZnO 纳米线的制备及生长机制、光学性能研究 | 第32-40页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·实验过程 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-38页 |
| ·Sn 掺杂ZnO 纳米线的形貌 | 第33-34页 |
| ·Sn 掺杂ZnO 纳米线的结构和成分 | 第34-36页 |
| ·Sn 掺杂ZnO 纳米线的生长机制 | 第36-37页 |
| ·Sn 掺杂ZnO 纳米线的光致发光性能 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 SiOx 纳米线的气相合成与发光特性研究 | 第40-46页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验过程 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-44页 |
| ·SiOx 纳米线的形貌 | 第41-42页 |
| ·产物的结构与成份 | 第42-43页 |
| ·SiOx 纳米线的生长机制 | 第43页 |
| ·SiOx 纳米线的光致发光性能 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第五章 锗酸锌分级纳米结构的制备、表征、生长机制和发光性能研究 | 第46-53页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·实验过程 | 第47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-52页 |
| ·合成产物的形貌 | 第47-48页 |
| ·合成产物的结构与成份 | 第48-50页 |
| ·产物的生长机制 | 第50-51页 |
| ·产物的光致发光性能 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 全文总结与前景展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第63-64页 |
