| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-23页 |
| ·H_2O_2的性质、用途、传统生产工艺及新技术研发动态 | 第10-18页 |
| ·H_2O_2的性质与用途 | 第10页 |
| ·H_2O_2的传统生产工艺 | 第10-12页 |
| ·H_2O_2合成新技术的研究现状 | 第12-18页 |
| ·非平衡等离子体技术及应用前景 | 第18-22页 |
| ·等离子体的定义及其分类 | 第18-19页 |
| ·非平衡等离子体中的化学反应过程及产生方式 | 第19页 |
| ·DBD等离子体的特征及其在化学领域中的应用 | 第19-22页 |
| ·选题依据及研究内容 | 第22-23页 |
| ·选题依据 | 第22页 |
| ·研究内容 | 第22-23页 |
| 2 实验装置与方法 | 第23-28页 |
| ·实验原料 | 第23页 |
| ·实验仪器设备 | 第23-24页 |
| ·等离子体电源 | 第23页 |
| ·气相色谱仪 | 第23页 |
| ·示波器、电压探头及电流探头 | 第23页 |
| ·发射光谱仪 | 第23-24页 |
| ·三相钳形数字功率表 | 第24页 |
| ·隔膜真空泵 | 第24页 |
| ·等离子体法直接合成H_2O_2的实验装置及流程 | 第24-25页 |
| ·常压下等离子体法直接合成H_2O_2的实验装置及流程 | 第24-25页 |
| ·负压下等离子体法直接合成H_2O_2的实验装置及流程 | 第25页 |
| ·自冷却双介质阻挡放电双水电极(DDBD)反应器 | 第25-26页 |
| ·产物H_2O_2的检测：间接碘量法 | 第26-27页 |
| ·氢氧等离子体法直接合成H_2O_2的评价指标 | 第27-28页 |
| 3 惰性气体中氢氧等离子体直接合成H_2O_2 | 第28-43页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·添加N_2对氢氧等离子体直接合成H_2O_2的影响 | 第28-32页 |
| ·添加N_2对体系击穿电压的影响 | 第28-29页 |
| ·添加N_2对H_2O_2合成性能的影响 | 第29-32页 |
| ·添加He对氢氧等离子体直接合成H_2O_2的影响 | 第32-37页 |
| ·添加He对体系击穿电压的影响 | 第32-33页 |
| ·添加He对H_2O_2合成性能的影响 | 第33-37页 |
| ·添加Ar对氢氧等离子体直接合成H_2O_2的影响 | 第37-42页 |
| ·添加Ar对体系击穿电压的影响 | 第37-39页 |
| ·添加Ar对H_2O_2合成性能的影响 | 第39-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 4 负压条件下氢氧等离子体直接合成H_2O_2 | 第43-55页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·负压条件对氢氧等离子体直接合成H_2O_2的影响 | 第44-48页 |
| ·负压条件对体系击穿电压的影响 | 第44页 |
| ·负压条件对H_2O_2合成性能的影响 | 第44-48页 |
| ·微负压和添加He条件对氢氧等离子体直接合成H_2O_2的影响 | 第48-51页 |
| ·微负压和添加Ar条件对氢氧等离子体直接合成H_2O_2的影响 | 第51-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 5 高氧浓度下氢氧等离子体直接合成H_2O_2 | 第55-65页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·氧气浓度对氢氧等离子体直接合成H_2O_2的影响 | 第55-58页 |
| ·添加Ar条件下氧气浓度对氢氧等离子体直接合成H_2O_2的影响 | 第58-61页 |
| ·微负压和添加Ar条件下氧气浓度对合成H_2O_2的影响 | 第61-64页 |
| ·小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
