| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·铜电解精炼 | 第8-13页 |
| ·铜电解精炼概述 | 第8-9页 |
| ·铜电解精炼发展趋势 | 第9-10页 |
| ·铜电解精炼工艺流程及工艺要素 | 第10-13页 |
| ·铜电解精炼添加剂 | 第13-19页 |
| ·添加剂对阴极极化作用的影响 | 第13页 |
| ·常用添加剂在铜电解精炼中的作用 | 第13-16页 |
| ·添加剂的研究现状 | 第16-19页 |
| ·离子液体的性质 | 第19-22页 |
| ·离子液体的种类 | 第19页 |
| ·离子液体的性质 | 第19-22页 |
| ·研究工作的意义、内容和创新点 | 第22-24页 |
| ·研究意义 | 第22-23页 |
| ·研究内容 | 第23页 |
| ·创新点 | 第23-24页 |
| 第二章 理论基础及实验方法 | 第24-30页 |
| ·理论基础 | 第24-26页 |
| ·铜电解精炼的理论基础 | 第24-25页 |
| ·粗糙度测试 | 第25-26页 |
| ·实验方法 | 第26-30页 |
| ·实验仪器 | 第26-27页 |
| ·电解液的配制及实验条件 | 第27-28页 |
| ·电解精炼 | 第28-29页 |
| ·电化学测试 | 第29-30页 |
| 第三章 [BMIM]HSO_4对阴极铜质量影响的研究 | 第30-39页 |
| ·实验仪器试剂及实验条件 | 第30页 |
| ·实验内容 | 第30页 |
| ·[BMIM]HSO_4对铜电解的影响 | 第30-38页 |
| ·单独添加[BMIm]HSO_4对阴极铜质量的影响 | 第30-32页 |
| ·[BMIm]HSO_4与明胶的稳定性对比 | 第32-35页 |
| ·[BMIm]HSO_4与明胶、硫脲组合添加剂对阴极铜质量的影响 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 咪唑氯盐离子液体对阴极铜质量影响的研究 | 第39-65页 |
| ·实验仪器试剂及实验条件 | 第39-40页 |
| ·实验内容 | 第40-41页 |
| ·电解精炼 | 第40页 |
| ·阴极铜的表面粗糙度测试 | 第40页 |
| ·循环伏安和塔菲尔测试 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-64页 |
| ·有两个取代基的咪唑氯盐离子液体对阴极铜质量的影响 | 第41-46页 |
| ·有三个取代基的咪唑氯盐离子液体对阴极铜质量的影响 | 第46-52页 |
| ·循环伏安和塔菲尔测试结果 | 第52-59页 |
| ·单独添加[OMMIm]Cl所得阴极铜的形貌 | 第59-61页 |
| ·[OMMIm]Cl与明胶、硫脲组合添加对阴极铜质量的影响 | 第61页 |
| ·电解液中[OMMIm]Cl的稳定性研究 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-66页 |
| ·结论 | 第65页 |
| ·存在的问题 | 第65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 附录A: 攻读硕士研究生期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
