| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-38页 |
| ·课题背景及研究的意义 | 第14-15页 |
| ·纳米阵列电极的研究现状 | 第15-25页 |
| ·纳米阵列电极的制备方法 | 第16-22页 |
| ·纳米阵列电极表征 | 第22-23页 |
| ·纳米阵列电极的应用 | 第23-25页 |
| ·纳米阵列电极基本理论 | 第25-32页 |
| ·扩散传质形式 | 第26-31页 |
| ·双电层充电电流和信噪比 | 第31页 |
| ·纳米阵列电极内阻 | 第31-32页 |
| ·化学修饰电极的研究现状 | 第32-36页 |
| ·化学修饰电极的制备 | 第32-34页 |
| ·化学修饰电极在电分析化学中的应用 | 第34-36页 |
| ·化学修饰金电极的研究现状 | 第36页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第36-38页 |
| 第2章 试验材料与实验方法 | 第38-45页 |
| ·化学试剂、材料和试验仪器 | 第38-41页 |
| ·聚碳酸酯滤膜模板 | 第38-39页 |
| ·药品和仪器 | 第39-41页 |
| ·金纳米阵列电极制备流程 | 第41页 |
| ·L-半胱氨酸自组装修饰电极的制备方法 | 第41-42页 |
| ·金电极的前处理 | 第41-42页 |
| ·电极的修饰 | 第42页 |
| ·电子显微表征方法 | 第42-43页 |
| ·扫描电子显微技术 | 第42页 |
| ·透射电子显微技术 | 第42页 |
| ·能量色散x射线技术 | 第42-43页 |
| ·电化学研究方法 | 第43-45页 |
| ·循环伏安法 | 第43页 |
| ·电化学阻抗谱法 | 第43页 |
| ·方波伏安法 | 第43-45页 |
| 第3章 金纳米阵列及其修饰电极的制备 | 第45-64页 |
| ·模板法制备纳米线阵列 | 第46-54页 |
| ·聚碳酸酯滤膜的固定 | 第46-48页 |
| ·化学镀金前处理技术 | 第48-50页 |
| ·化学镀金 | 第50-53页 |
| ·化学镀金后纯化处理 | 第53-54页 |
| ·纳米线阵列电子显微表征 | 第54-56页 |
| ·SEM和EDX表征 | 第54-56页 |
| ·TEM表征 | 第56页 |
| ·二维圆盘纳米阵列的制备 | 第56-57页 |
| ·三维刷式纳米阵列的制备 | 第57-60页 |
| ·刻蚀溶液的优化 | 第58-59页 |
| ·刻蚀溶液浓度的确定 | 第59页 |
| ·刻蚀量的控制 | 第59-60页 |
| ·纳米阵列电极的组装 | 第60-61页 |
| ·2DNEEs的组装 | 第60页 |
| ·3DBNEEs的组装 | 第60-61页 |
| ·L-半胱氨酸自组装化学修饰电极的制备 | 第61-62页 |
| ·自组装修饰机理 | 第61-62页 |
| ·修饰电极的制备 | 第62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第4章 纳米阵列电极的电化学表征 | 第64-79页 |
| ·扩散形式的表征 | 第64-68页 |
| ·直径为100 nm的2DNEEs | 第64-66页 |
| ·直径为30 nm的2DNEEs | 第66-67页 |
| ·直径为100 nm的3DBNEEs | 第67-68页 |
| ·阻抗的表征 | 第68-71页 |
| ·传荷阻抗和Warburg阻抗 | 第68-70页 |
| ·欧姆电阻 | 第70-71页 |
| ·活性面积的表征 | 第71-76页 |
| ·电化学阻抗谱法 | 第71-75页 |
| ·氧化还原电量法 | 第75页 |
| ·吸附量法 | 第75-76页 |
| ·L-Cys修饰纳米阵列电极的表征 | 第76-78页 |
| ·循环伏安法 | 第76-77页 |
| ·电化学阻抗谱法 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第5章 NEEs及其修饰电极对DNR的应用研究 | 第79-94页 |
| ·柔红霉素在3DBNEEs上的电化学特征 | 第81-88页 |
| ·测定体系的建立及工作参数的优化 | 第81-82页 |
| ·循环伏安特征 | 第82-87页 |
| ·方波伏安法定量检测DNR | 第87-88页 |
| ·柔红霉素在L-Cys/BNEEs上的电化学特征 | 第88-93页 |
| ·测定体系的建立及工作参数的优化 | 第88页 |
| ·循环伏安特征 | 第88-92页 |
| ·方波伏安法定量检测DNR | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-94页 |
| 第6章 3DBNEEs对OPD-H_2O_2-HRP的研究 | 第94-101页 |
| ·测定体系的建立及工作参数的优化 | 第95-96页 |
| ·pH值和缓冲溶液的选择 | 第95页 |
| ·OPD和H_2O_2浓度的选择 | 第95-96页 |
| ·温度的选择 | 第96页 |
| ·反应培养时间的确定 | 第96页 |
| ·酶催化反应在3DBNEEs上的电化学特征 | 第96-100页 |
| ·循环伏安特征 | 第96-99页 |
| ·方波伏安法定量检测HRP | 第99-100页 |
| ·本章小结 | 第100-101页 |
| 结论 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-119页 |
| 攻读博士学位期间所发表的论文及其它成果 | 第119-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 个人简历 | 第122页 |