| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1. 前言 | 第9-23页 |
| ·开关电器对触头材料的基本要求 | 第9-10页 |
| ·物理性能 | 第9页 |
| ·化学性能 | 第9页 |
| ·电接触性能 | 第9-10页 |
| ·加工制造性能 | 第10页 |
| ·WCu合金制备工艺概述 | 第10-13页 |
| ·常规WCu合金的制备工艺及其特点 | 第10-12页 |
| ·新型WCu合金的制备工艺及其特点 | 第12-13页 |
| ·电弧的概念及特性 | 第13-14页 |
| ·真空击穿及机理 | 第14-18页 |
| ·真空击穿现象 | 第15-16页 |
| ·真空击穿机理 | 第16-18页 |
| ·钨铜复合材料的国内外研究进展 | 第18-20页 |
| ·国内研究及应用 | 第18页 |
| ·国外研究及应用 | 第18-20页 |
| ·本课题研究的目的、意义及内容 | 第20-23页 |
| 2. 实验方案及方法 | 第23-31页 |
| ·实验方案框图 | 第23-24页 |
| ·实验材料及材料制备 | 第24-25页 |
| ·实验所用原料 | 第24页 |
| ·材料的制备 | 第24-25页 |
| ·材料的性能测试 | 第25-26页 |
| ·电导率的测量 | 第25页 |
| ·硬度的测量 | 第25页 |
| ·密度的测量 | 第25页 |
| ·显微组织分析 | 第25页 |
| ·X射线衍射分析 | 第25-26页 |
| ·高速摄影实验 | 第26-29页 |
| ·高速摄影实验介绍 | 第26-27页 |
| ·实验电路及实验条件 | 第27页 |
| ·电弧结构及温度分布 | 第27-28页 |
| ·截流值和电弧寿命的测量 | 第28-29页 |
| ·电弧烧蚀实验条件 | 第29-31页 |
| 3. 掺杂物硼对WCu合金组织与性能的影响 | 第31-37页 |
| ·硼的性质及掺杂硼的研究目的 | 第31页 |
| ·掺杂B的WCu合金显微组织及性能 | 第31-33页 |
| ·掺杂B后WCu合金的显微组织 | 第31-32页 |
| ·掺杂物B对WCu合金性能的影响 | 第32-33页 |
| ·掺杂物B对WCu合金影响的分析与讨论 | 第33-37页 |
| ·掺杂物B对显微组织及相对密度的影响分析 | 第33-34页 |
| ·掺杂物B对硬度及电导率的影响分析 | 第34-37页 |
| 4. 掺杂物铌对WCu合金组织与性能的影响 | 第37-43页 |
| ·铌的性质及掺杂铌的研究目的 | 第37页 |
| ·掺杂Nb的WCu合金显微组织及性能 | 第37-39页 |
| ·掺杂Nb后WCu合金的显微组织 | 第37-38页 |
| ·掺杂物Nb对WCu合金性能的影响 | 第38-39页 |
| ·掺杂物Nb对WCu合金影响的分析与讨论 | 第39-43页 |
| ·掺杂物Nb对显微组织及相对密度的影响分析 | 第39-41页 |
| ·掺杂物Nb对硬度及电导率的影响分析 | 第41-43页 |
| 5. 掺杂物铈对WCu合金组织与性能的影响 | 第43-49页 |
| ·铈的性质及掺杂铈的研究目的 | 第43-44页 |
| ·掺杂Ce的WCu合金显微组织及性能 | 第44-45页 |
| ·掺杂Ce后WCu合金的显微组织 | 第44-45页 |
| ·掺杂物Ce对WCu合金性能的影响 | 第45页 |
| ·掺杂物Ce对WCu合金影响的分析与讨论 | 第45-49页 |
| ·掺杂物Ce对显微组织及相对密度的影响分析 | 第46页 |
| ·掺杂物Ce对硬度及电导率的影响分析 | 第46-49页 |
| 6. 掺杂不同元素WCuX的燃弧演化过程和抗电弧烧蚀性 | 第49-61页 |
| ·掺杂物对电弧演化过程及截流值的影响 | 第49-55页 |
| ·不同掺杂物合金的电弧形态及放电曲线 | 第49-53页 |
| ·电弧形态及截流值的分析与讨论 | 第53-55页 |
| ·掺杂物对WCu合金抗电弧烧蚀性的影响 | 第55-61页 |
| ·烧蚀实验测量结果 | 第55-57页 |
| ·抗电弧烧蚀性的分析与讨论 | 第57-61页 |
| 7. 结论 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及申请的专利 | 第71页 |