| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| ·论文研究的意义 | 第9-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-19页 |
| ·剩余污层电阻的静态模型研究 | 第10-15页 |
| ·剩余污层电阻的动态模型研究 | 第15-17页 |
| ·污层状态对剩余污层电阻的影响 | 第17-19页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 2 污闪过程与绝缘子平板污闪模型 | 第21-40页 |
| ·玻璃绝缘子污闪基本过程 | 第21-22页 |
| ·平板物理模型的展开 | 第22-28页 |
| ·弧段的分类及弧段对盘径增加量的计算方法 | 第23-25页 |
| ·展开实例 | 第25-28页 |
| ·玻璃绝缘子平板污闪计算模型 | 第28-31页 |
| ·剩余污层形状系数与电阻数学模型 | 第28-29页 |
| ·平板污闪模型的临界条件 | 第29-31页 |
| ·平板污闪模型数学计算 | 第31-37页 |
| ·均匀污秽时的剩余污层电阻 | 第31-32页 |
| ·均匀污秽时的临界闪络电流、电压 | 第32-33页 |
| ·不均匀污秽时的剩余污层电阻 | 第33-35页 |
| ·不均匀污秽时的临界闪络电压 | 第35-37页 |
| ·复合绝缘子污闪基本过程与计算模型 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 3 剩余污层电阻模型计算与分析 | 第40-51页 |
| ·玻璃绝缘子剩余污层电阻 | 第40-44页 |
| ·临界弧长 | 第40-42页 |
| ·剩余污层电阻模型计算 | 第42-44页 |
| ·不均匀染污对剩余污层电阻的影响及电阻的影响因素分析 | 第44-47页 |
| ·剩余污层电阻与污秽均匀度的关系 | 第44-45页 |
| ·污秽均匀度对剩余污层电阻影响的修正 | 第45-46页 |
| ·剩余污层电阻的影响因素分析 | 第46-47页 |
| ·复合绝缘子水带电阻 | 第47-50页 |
| ·水带宽度 | 第48-49页 |
| ·水带厚度 | 第49页 |
| ·水带电阻 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 4 试验装置与电阻模型验证 | 第51-63页 |
| ·污秽试验原理与装置 | 第51-52页 |
| ·玻璃绝缘子剩余污层电阻验证 | 第52-59页 |
| ·试验值及飘弧对它的影响 | 第52-56页 |
| ·剩余污层电阻的验证 | 第56-59页 |
| ·复合绝缘子水带电阻验证 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 5 结论 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 附录 | 第69页 |
| A. 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第69页 |
| B. 作者在攻读硕士学位期间参与的科研项目目录及获得的奖励 | 第69页 |