| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-16页 |
| 第1章 绪论 | 第16-37页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·气体阻隔材料国内外研究现状 | 第17-24页 |
| ·气体阻隔材料的分类 | 第17-19页 |
| ·气体阻隔涂层的作用机理 | 第19-21页 |
| ·气体阻隔DLC 薄膜的研究现状 | 第21-24页 |
| ·圆筒状聚合物容器内壁DLC 薄膜研究现状 | 第24-31页 |
| ·等离子体增强化学气相沉积 | 第25-27页 |
| ·离子注入技术 | 第27-30页 |
| ·当前用于高阻隔PET 瓶的商业化涂层技术 | 第30-31页 |
| ·PET 瓶内表面薄膜制备技术特点比较 | 第31页 |
| ·射频/直流复合等离子体技术研究现状 | 第31-35页 |
| ·射频等离子体自偏压产生机理 | 第31-34页 |
| ·射频/直流复合方法研究 | 第34-35页 |
| ·本文的研究内容 | 第35-37页 |
| 第2章 膜层制备及表征方法 | 第37-45页 |
| ·实验材料 | 第37页 |
| ·实验设备及原理 | 第37-40页 |
| ·实验设备 | 第37-38页 |
| ·实验工艺 | 第38-40页 |
| ·DLC 薄膜分析与表征方法 | 第40-45页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第40页 |
| ·傅里叶变换红外光谱 | 第40-41页 |
| ·紫外可见光分光光度计 | 第41页 |
| ·光学表面轮廓仪 | 第41页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第41页 |
| ·基体拉伸试验 | 第41-42页 |
| ·接触角测试 | 第42页 |
| ·气体透过率测试分析 | 第42-44页 |
| ·浸泡实验 | 第44-45页 |
| 第3章 同轴筒状布局DC/RF 复合放电的数值模拟 | 第45-68页 |
| ·模型 | 第45-48页 |
| ·不同直流复合偏压下的数值模拟结果 | 第48-56页 |
| ·电势分布 | 第49-50页 |
| ·电子密度分布 | 第50-51页 |
| ·离子密度分布 | 第51-52页 |
| ·Ar 离子运动矢量图 | 第52-53页 |
| ·电子能量分布函数 | 第53-54页 |
| ·离子能量空间分布 | 第54-56页 |
| ·不同射频幅值电压下的数值模拟结果 | 第56-61页 |
| ·电势分布 | 第56页 |
| ·电子密度分布 | 第56-58页 |
| ·离子密度分布 | 第58-59页 |
| ·Ar 离子运动矢量图 | 第59页 |
| ·电子能量分布函数 | 第59页 |
| ·离子能量空间分布 | 第59-61页 |
| ·不同沉积气压下的数值模拟结果 | 第61-67页 |
| ·电势分布 | 第61-62页 |
| ·电子密度分布 | 第62-63页 |
| ·离子密度分布 | 第63页 |
| ·Ar 离子运动矢量图 | 第63-65页 |
| ·电子能量分布函数 | 第65-66页 |
| ·离子能量空间分布 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-68页 |
| 第4章 DC/RF 复合等离子体电源及反应腔体内放电特性研究 | 第68-82页 |
| ·直流射频复合等离子体电源结构及输出特性 | 第68-71页 |
| ·直流射频复合等离子体电源 | 第68-69页 |
| ·直流射频复合等离子体电源特性 | 第69-71页 |
| ·直流射频复合等离子体放电特性 | 第71-80页 |
| ·Langmuir 探针测试 | 第71-75页 |
| ·直流偏压对反应腔体内离子密度分布的影响 | 第75-76页 |
| ·射频功率对反应腔体内离子密度分布的影响 | 第76-77页 |
| ·工作气压对反应腔体内离子密度分布的影响 | 第77-78页 |
| ·反应腔体内离子密度分布均匀性的研究 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 第5章 PET 圆筒内壁DLC 薄膜结构表征 | 第82-107页 |
| ·DLC 薄膜的沉积速率 | 第82-90页 |
| ·直流偏压引入对沉积速率的影响 | 第82-84页 |
| ·射频输入功率对沉积速率的影响 | 第84-85页 |
| ·反应气压对沉积速率的影响 | 第85-87页 |
| ·DLC 薄膜沉积机制分析 | 第87-90页 |
| ·DLC 薄膜的组成与结构 | 第90-97页 |
| ·直流偏压引入对膜层组成和结构的影响 | 第90-92页 |
| ·射频输入功率对膜层组成和结构的影响 | 第92-95页 |
| ·反应气压对膜层组成和结构的影响 | 第95-97页 |
| ·DLC 薄膜结构转变机制分析 | 第97页 |
| ·DLC 薄膜的表面形貌 | 第97-105页 |
| ·直流偏压引入对膜层表面形貌的影响 | 第98-100页 |
| ·射频输入功率对膜层表面形貌的影响 | 第100-101页 |
| ·反应气压对膜层表面形貌的影响 | 第101-102页 |
| ·PET 表面DLC 薄膜缺陷产生机制 | 第102-105页 |
| ·本章小结 | 第105-107页 |
| 第6章 PET 圆筒内表面DLC 薄膜性能研究 | 第107-137页 |
| ·DLC 薄膜的均匀性 | 第107-117页 |
| ·DLC 薄膜均匀性的表征 | 第107-108页 |
| ·无磁场时DLC 薄膜均匀性研究 | 第108-111页 |
| ·磁场约束时DLC 薄膜轴向均匀性分析 | 第111-115页 |
| ·DLC 薄膜沉积轴向均匀性分析 | 第115-117页 |
| ·DLC 薄膜的结合力 | 第117-125页 |
| ·DLC 薄膜结合力表征 | 第117-118页 |
| ·直流偏压对DLC 薄膜结合力的影响 | 第118-119页 |
| ·射频功率对DLC 薄膜结合力的影响 | 第119-120页 |
| ·工作气压对DLC 薄膜结合力的影响 | 第120-124页 |
| ·聚合物基体表面DLC 薄膜结合力的探讨 | 第124-125页 |
| ·DLC 薄膜的阻隔性能 | 第125-129页 |
| ·直流偏压对DLC 薄膜阻隔性能的影响 | 第125-126页 |
| ·射频功率对DLC 薄膜阻隔性能的影响 | 第126-127页 |
| ·工作气压对DLC 薄膜阻隔性能的影响 | 第127-128页 |
| ·DLC 薄膜气体阻隔作用机制分析 | 第128-129页 |
| ·DLC 薄膜的稳定性 | 第129-136页 |
| ·表面润湿试验 | 第129-132页 |
| ·浸泡试验 | 第132-134页 |
| ·DLC 薄膜稳定性的讨论 | 第134-136页 |
| ·本章小结 | 第136-137页 |
| 第7章 内壁镀膜高阻隔PET 瓶中试生产样机设计 | 第137-144页 |
| ·PET 瓶内壁PECVD 系统总体概况 | 第137-138页 |
| ·真空系统 | 第137-138页 |
| ·送气系统 | 第138页 |
| ·控制柜和专用电源 | 第138页 |
| ·转动机构 | 第138页 |
| ·多工位PET 瓶内壁PECVD 装置结构设计 | 第138-141页 |
| ·反应容器的机构设计 | 第138-140页 |
| ·反应容器的材料选择 | 第140页 |
| ·真空系统设计 | 第140-141页 |
| ·多工位PET 瓶内壁PECVD 机构调试 | 第141-143页 |
| ·本章小结 | 第143-144页 |
| 结论 | 第144-146页 |
| 参考文献 | 第146-160页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文 | 第160-163页 |
| 致谢 | 第163-164页 |
| 个人简历 | 第164页 |