中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-19页 |
·自蔓延高温合成技术的发展概况 | 第9-12页 |
·自蔓延高温合成技术的发展 | 第9-10页 |
·自蔓延高温合成技术的特点 | 第10页 |
·自蔓延高温合成技术的应用 | 第10-12页 |
·碳化硼陶瓷的研究现状 | 第12-17页 |
·碳化硼的晶体结构 | 第12-13页 |
·碳化硼的性能及应用 | 第13-15页 |
·碳化硼粉体的合成 | 第15-16页 |
·碳化硼陶瓷的致密化 | 第16-17页 |
·本文研究目的、意义及主要内容 | 第17-19页 |
·研究目的、意义 | 第17页 |
·研究内容 | 第17-19页 |
第2章 实验方案 | 第19-24页 |
·实验材料 | 第19-20页 |
·B_2O_3-Mg-CB自蔓延体系 | 第19-20页 |
·B_2O_3-Mg-CA自蔓延体系 | 第20页 |
·实验所需仪器设备 | 第20-22页 |
·分析测试 | 第22-24页 |
·粉体性能测试 | 第22页 |
·陶瓷性能测试 | 第22-24页 |
第3章 B_2O_3-Mg-CB体系自蔓延高温合成B_4C超细粉体的工艺研究 | 第24-43页 |
·B_2O_3-Mg-CB体系自蔓延高温合成的热力学计算 | 第24-27页 |
·绝热温度的计算 | 第24-26页 |
·体系自由能的计算 | 第26-27页 |
·实验方案及方法 | 第27-29页 |
·实验方案 | 第27-28页 |
·实验方法及工艺流程 | 第28-29页 |
·实验工艺参数的确定 | 第29页 |
·实验结果与讨论 | 第29-42页 |
·产物物相和形貌分析 | 第29-32页 |
·成型压力的影响 | 第32-34页 |
·原料配比的影响 | 第34-39页 |
·稀释剂的影响 | 第39-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第4章 B_2O_3-Mg-CA体系自蔓延高温合成B_4C粉体 | 第43-50页 |
·柠檬酸(C_6H_8O_7·H_2O)差热分析 | 第43-44页 |
·实验方案及方法 | 第44-45页 |
·实验方案 | 第44页 |
·实验方法及工艺流程 | 第44-45页 |
·实验结果与讨论 | 第45-49页 |
·合成过程和酸洗处理 | 第45-47页 |
·原料配比的影响 | 第47-48页 |
·稀释剂的影响 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第5章 热压烧结碳化硼陶瓷材料的研究 | 第50-58页 |
·实验原料及方案 | 第50-52页 |
·碳化硼粉体的细化处理 | 第52-53页 |
·热压烧结碳化硼陶瓷 | 第53-57页 |
·碳化硼陶瓷物相和致密度分析 | 第54-55页 |
·碳化硼陶瓷显微结构分析 | 第55-56页 |
·碳化硼陶瓷力学性能分析 | 第56-57页 |
·小结 | 第57-58页 |
第6章 总结 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-63页 |
致谢 | 第63页 |