| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·无铅压电陶瓷材料 | 第10-14页 |
| ·无铅压电陶瓷的研究背景 | 第10页 |
| ·无铅压电陶瓷的研究现状 | 第10-12页 |
| ·(Na,K)NbO_3无铅压电陶瓷材料 | 第12-14页 |
| ·无铅压电陶瓷薄膜、厚膜材料 | 第14-19页 |
| ·无铅压电陶瓷薄膜的研究现状 | 第14-16页 |
| ·无铅压电陶瓷厚膜的研究现状 | 第16-19页 |
| ·本文研究的内容、目的和意义 | 第19-20页 |
| 第2章 试验方法选择和性能表征 | 第20-28页 |
| ·实验原料及设备 | 第20-21页 |
| ·制备方法 | 第21-26页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3溶胶的制备 | 第21-23页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3粉体的制备 | 第23页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3薄膜的制备 | 第23-25页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3厚膜的制备 | 第25-26页 |
| ·结构及性能表征 | 第26-28页 |
| ·结构分析 | 第26-27页 |
| ·性能表征 | 第27-28页 |
| 第3章 K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3溶胶及超细粉体的制备 | 第28-40页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3溶胶的制备 | 第28-32页 |
| ·可溶性铌源的制备 | 第28-29页 |
| ·氢氧化铌的络合实验 | 第29-31页 |
| ·Nb-柠檬酸溶液的稳定性 | 第31-32页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3溶胶的制备 | 第32页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3粉体晶化过程分析 | 第32-38页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3前驱体的热分析(DSC-TG) | 第32-33页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3凝胶及粉体的红外分析 | 第33-34页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3粉体的XRD分析 | 第34-38页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3粉体形貌分析 | 第38-39页 |
| ·煅烧温度对K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3粉体形貌的影响 | 第38-39页 |
| ·煅烧时间对K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3粉体形貌的影响 | 第39页 |
| ·小结 | 第39-40页 |
| 第4章 K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3陶瓷薄膜制备及性能分析 | 第40-54页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·薄膜制备工艺 | 第40-52页 |
| ·前驱体溶胶的性质 | 第40-43页 |
| ·旋涂工艺参数 | 第43-45页 |
| ·干燥分解温度及时间 | 第45-47页 |
| ·退火温度及时间 | 第47-49页 |
| ·不同基片 | 第49-52页 |
| ·薄膜电学性能表征 | 第52-53页 |
| ·介电性能 | 第52-53页 |
| ·铁电性能 | 第53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第5章 K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3陶瓷厚膜制备及性能分析 | 第54-65页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·厚膜制备工艺 | 第54-61页 |
| ·K_(0.5)Na_(0.5)NbO_3陶瓷厚膜的制备流程 | 第54-55页 |
| ·超细粉体分散 | 第55-56页 |
| ·溶胶浓度 | 第56页 |
| ·粉体浓度 | 第56-59页 |
| ·旋涂层数 | 第59-60页 |
| ·厚膜、薄膜交替沉积技术(厚薄相间) | 第60-61页 |
| ·厚膜电学性能表征 | 第61-63页 |
| ·介电性能 | 第61-62页 |
| ·铁电性能 | 第62-63页 |
| ·小结及展望 | 第63-65页 |
| 第6章 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 附录:硕士期间发表的论文 | 第71页 |
