| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 光刻 | 第11页 |
| 1.2 表面等离子体干涉光刻 | 第11-18页 |
| 1.2.1 表面等离子体 | 第11-12页 |
| 1.2.2 表面等离子体干涉光刻研究进展 | 第12-18页 |
| 1.3 导模干涉光刻 | 第18-22页 |
| 1.3.1 导模 | 第18页 |
| 1.3.2 导模干涉光刻研究进展 | 第18-22页 |
| 1.4 基于样品旋转的光刻 | 第22-24页 |
| 1.5 本论文主要研究工作 | 第24-26页 |
| 第2章 基于样品旋转的表面等离子体干涉亚波长光刻理论研究 | 第26-34页 |
| 2.1 理论分析 | 第26-28页 |
| 2.2 研究结果与讨论 | 第28-33页 |
| 2.2.1 二维正方排列点阵和六角排列点阵结构刻写研究 | 第28-32页 |
| 2.2.2 圆光栅刻写研究 | 第32-33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 基于样品旋转的低阶导模干涉亚波长光刻理论研究 | 第34-44页 |
| 3.1 理论分析 | 第34-37页 |
| 3.2 研究结果与讨论 | 第37-43页 |
| 3.2.1 二维正方排列点阵和六角排列点阵结构刻写研究 | 第37-42页 |
| 3.2.2 圆光栅刻写研究 | 第42-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 基于样品旋转的高阶导模干涉亚波长光刻理论研究 | 第44-49页 |
| 4.1 理论分析 | 第44-45页 |
| 4.2 研究结果与讨论 | 第45-48页 |
| 4.2.1 简单正方排列的准立方体结构刻写研究 | 第45-47页 |
| 4.2.2 六角排列的准八面体结构刻写研究 | 第47-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 结论与展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录A 攻读硕士期间作者研究成果目录 | 第58页 |
