| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第10-29页 |
| 1.1 表面活性剂 | 第10页 |
| 1.2 表面活性的聚集 | 第10-15页 |
| 1.2.1 表面活性剂的临界胶束浓度 | 第11-13页 |
| 1.2.2 表面活性剂的聚集形态 | 第13-15页 |
| 1.3 表面活性剂聚集性质的NMR表征 | 第15-27页 |
| 1.3.1 化学位移 | 第15-16页 |
| 1.3.2 自扩散系数 | 第16页 |
| 1.3.3 NMR弛豫 | 第16-19页 |
| 1.3.3.1 自旋晶格弛豫和自旋-自旋弛豫 | 第17页 |
| 1.3.3.2 偶极偶极弛豫 | 第17-19页 |
| 1.3.4 NOESY和ROESY | 第19-20页 |
| 1.3.5 饱和转移差谱(STD) | 第20-23页 |
| 1.3.5.1 饱和转移差谱(STD) | 第20-22页 |
| 1.3.5.2 水的饱和转移差谱 | 第22-23页 |
| 1.3.6 溶液顺磁弛豫增强 | 第23-27页 |
| 1.3.6.1 顺磁弛豫增强(PRE) | 第23-24页 |
| 1.3.6.2 溶液顺磁弛豫增强(sPRE) | 第24-26页 |
| 1.3.6.3 sPRE测量 | 第26页 |
| 1.3.6.4 sPRE探针 | 第26-27页 |
| 1.4 运用溶液顺磁弛豫增强研究胶束的聚集形态 | 第27-29页 |
| 第2章 CHAPS胶束的聚集形态研究 | 第29-48页 |
| 2.1 引言 | 第29-30页 |
| 2.2 实验部分 | 第30-32页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第30-31页 |
| 2.2.2 样品准备 | 第31页 |
| 2.2.3 NMR实验 | 第31-32页 |
| 2.3 结果和讨论 | 第32-47页 |
| 2.3.1 运用二维~1H -~(13)C HSQC测量CHAPS的弛豫速率 | 第32-33页 |
| 2.3.2 CHAPS的弛豫速率及其CMC | 第33-36页 |
| 2.3.3 通过sPRE确定CHAPS胶束的聚集形态 | 第36-44页 |
| 2.3.4 运用STD技术研究CHAPS胶束的含水研究 | 第44-47页 |
| 2.4 小结 | 第47-48页 |
| 第3章 TX100胶束聚集形态的sPRE研究 | 第48-61页 |
| 3.1 引言 | 第48-49页 |
| 3.2 实验部分 | 第49-50页 |
| 3.2.1 实验材料 | 第49页 |
| 3.2.2 样品准备 | 第49页 |
| 3.2.3 NMR实验 | 第49-50页 |
| 3.3 结果和讨论 | 第50-60页 |
| 3.3.1 TX100质子的sPRE | 第50-58页 |
| 3.3.2 TX100的一维选择性ROESY | 第58-60页 |
| 3.4 小结 | 第60-61页 |
| 第4章 SDS的聚集形态的sPRE研究 | 第61-71页 |
| 4.1 引言 | 第61-62页 |
| 4.2 实验部分 | 第62-63页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第62页 |
| 4.2.2 样品准备 | 第62页 |
| 4.2.3 NMR实验 | 第62-63页 |
| 4.3 结果和讨论 | 第63-70页 |
| 4.3.1 SDS质子的sPRE | 第63-65页 |
| 4.3.2 SDS~(13)C核的sPRE | 第65-70页 |
| 4.4 小结 | 第70-71页 |
| 第5章 结论和展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-84页 |
| 附录 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85-87页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第87页 |
