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过渡金属掺杂和插层对二维材料性能调控的第一性原理研究

中文摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第14-24页
    1.1 引言第14页
    1.2 二维材料的研究现状第14-21页
        1.2.1 石墨烯第15-16页
        1.2.2 硅烯第16-17页
        1.2.3 过渡金属硫族化合物二维材料(TMDs)第17-19页
        1.2.4 磷烯第19-20页
        1.2.5 Tl_2S二维材料第20-21页
    1.3 二维范德瓦尔斯异质结第21-22页
    1.4 本文主要内容第22-24页
2 研究方法第24-28页
    2.1 计算物理学第24页
    2.2 密度泛函理论(density functional theory)第24-26页
        2.2.1 Hohenberg-Kohn定理第25页
        2.2.2 Kohn-Sham方程第25-26页
    2.3 交换关联能泛函的近似表达形式第26-27页
        2.3.1 局域密度近似(LDA)第26页
        2.3.2 广义梯度近似(GGA)第26-27页
    2.4 计算软件第27-28页
3 4d过渡金属掺杂对磷烯电子性能和磁性的调控第28-58页
    3.1 4d过渡金属对磷烯取代掺杂第28-42页
        3.1.1 研究背景第28-29页
        3.1.2 计算方法第29-30页
        3.1.3 结果和讨论第30-41页
        3.1.4 本节小结第41-42页
    3.2 4d过渡金属对磷烯吸附掺杂第42-55页
        3.2.1 背景简介第42-43页
        3.2.2 计算方法第43页
        3.2.3 结果与讨论第43-54页
        3.2.4 本节结论第54-55页
    3.3 本章小结第55-58页
4 过渡金属取代掺杂的Tl_2S的电子结构及磁性的研究第58-78页
    4.1 3d过渡金属取代掺杂Tl_2S第58-69页
        4.1.1 背景介绍第58-59页
        4.1.2 计算方法第59-60页
        4.1.3 结果与讨论第60-68页
        4.1.4 本节小结第68-69页
    4.2 4d过渡金属取代掺杂Tl_2S第69-75页
        4.2.1 研究背景第69页
        4.2.2 计算参数设置第69-70页
        4.2.3 结果与讨论第70-75页
        4.2.4 本节结论第75页
    4.3 本章结论第75-78页
5 BP/Tl_2S异质结和具有过渡金属插层的性能研究第78-94页
    5.1 背景简介第78-79页
    5.2 计算方法第79页
    5.3 结果和讨论第79-91页
    5.4 本章小结第91-94页
6 结论与展望第94-96页
    6.1 结论第94-95页
    6.2 展望第95-96页
参考文献第96-106页
博士期间发表的论文第106-108页
致谢第108页

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