| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第14-38页 |
| 1.1 引言 | 第14-16页 |
| 1.2 透明隔热涂料 | 第16-21页 |
| 1.2.1 透明隔热涂料的基本概念 | 第16-17页 |
| 1.2.2 透明隔热涂料的分类 | 第17-18页 |
| 1.2.3 透明隔热涂料的机理 | 第18-20页 |
| 1.2.4 透明隔热涂料的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.3 无机红外吸收剂Cs_xWO_3 | 第21-28页 |
| 1.3.1 钨青铜概述 | 第21-22页 |
| 1.3.2 Cs_xWO_3的晶体结构及特性 | 第22-23页 |
| 1.3.3 Cs_xWO_3的近红外线屏蔽机理 | 第23-25页 |
| 1.3.4 Cs_xWO_3的制备 | 第25-27页 |
| 1.3.5 Cs_xWO_3的研究进展 | 第27-28页 |
| 1.4 Cs_xWO_3在透明隔热玻璃涂层领域的应用 | 第28-35页 |
| 1.4.1 Cs_xWO_3透明隔热玻璃涂层的工艺路线 | 第28-29页 |
| 1.4.2 玻璃基底表面处理工艺 | 第29页 |
| 1.4.3 分散液的制备 | 第29-31页 |
| 1.4.4 SiO_2溶胶涂层 | 第31-32页 |
| 1.4.5 Cs_xWO_3透明隔热玻璃涂层的涂覆工艺 | 第32-35页 |
| 1.5 Cs_xWO_3透明隔热玻璃涂层的市场应用前景 | 第35页 |
| 1.6 本课题的研究目的、意义及研究内容 | 第35-38页 |
| 1.6.1 研究目的、意义 | 第35-37页 |
| 1.6.2 研究内容 | 第37-38页 |
| 第二章 实验方法及原理 | 第38-44页 |
| 2.1 主要化学试剂 | 第38-39页 |
| 2.2 主要实验仪器 | 第39页 |
| 2.3 技术路线 | 第39-40页 |
| 2.4 表征手段 | 第40-44页 |
| 2.4.1 X射线粉末衍射技术(XRD) | 第40页 |
| 2.4.2 扫描电子显微技术(SEM) | 第40-41页 |
| 2.4.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第41页 |
| 2.4.4 紫外-可见-近红外漫反射吸收光谱(UV-Vis-NIR) | 第41页 |
| 2.4.5 X射线能量散射谱(EDS) | 第41-42页 |
| 2.4.6 光学及隔热性能表征 | 第42页 |
| 2.4.7 分散液粒径分析(BT- 90动态光散射纳米激光粒度仪) | 第42页 |
| 2.4.8 膜层附着力表征 | 第42-44页 |
| 第三章 无机红外吸收剂Cs_xWO_3纳米粉体的制备及表征 | 第44-60页 |
| 3.1 引言 | 第44-45页 |
| 3.2 实验部分 | 第45-47页 |
| 3. 2.1 无机红外吸收剂Cs_xWO_3纳米粉体的制备 | 第45-47页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第47-59页 |
| 3.3.1 讨论水热时间的影响 | 第47-50页 |
| 3.3.2 讨论不同预添加量n(Cs)/n(W)的影响 | 第50-54页 |
| 3.3.3 讨论不同还原剂种类影响 | 第54-59页 |
| 3.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 Cs_(0.32)WO_3透明隔热玻璃涂层的制备及应用研究 | 第60-73页 |
| 4.1 引言 | 第60-61页 |
| 4.2 实验部分 | 第61-62页 |
| 4.2.1 无机红外吸收剂Cs_(0.32)WO_3纳米粉体的分散 | 第61页 |
| 4.2.2 玻璃基底预处理 | 第61页 |
| 4.2.3 紫外红外隔绝SiO_2溶胶的制备 | 第61-62页 |
| 4.2.4 透明隔热玻璃涂层 | 第62页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第62-71页 |
| 4.3.1 Cs_(0.32)WO_3纳米粉体的分散 | 第62-64页 |
| 4.3.2 Cs_(0.32)WO_3透明隔热玻璃涂层的光学性能 | 第64-67页 |
| 4.3.3 Cs_(0.32)WO_3透明隔热玻璃涂层的厚度选择 | 第67-69页 |
| 4.3.4 Cs_(0.32)WO_3透明隔热玻璃的涂层性能 | 第69-71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-76页 |
| 5.1 总结 | 第73-74页 |
| 5.2 展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 硕士期间发表论文 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
