| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 缩略语/符号说明 | 第10-11页 |
| 前言 | 第11-17页 |
| 研究现状、成果 | 第11-15页 |
| 研究目的、方法 | 第15-17页 |
| 1.1 对象和方法 | 第17-22页 |
| 1.1.1 实验对象 | 第17页 |
| 1.1.2 主要仪器 | 第17-18页 |
| 1.1.3 样本制备 | 第18页 |
| 1.1.4 激光功率计检测激光器 | 第18页 |
| 1.1.5 校正热电偶温度测量仪 | 第18-19页 |
| 1.1.6 实验分组 | 第19-20页 |
| 1.1.7 酸蚀剂处理牙本质面 | 第20页 |
| 1.1.8 激光处理样本 | 第20-21页 |
| 1.1.9 髓腔温度测试 | 第21页 |
| 1.1.10 扫描电子显微镜观察牙本质小管形态 | 第21页 |
| 1.1.11 对SEM图像关于牙本质小管封闭情况进行评分 | 第21页 |
| 1.1.12 统计分析 | 第21-22页 |
| 1.2 结果 | 第22-40页 |
| 1.2.1 同种激光在不同功率下时牙髓腔温度变化的结果 | 第22-25页 |
| 1.2.2 功率相同时不同激光处理对牙髓腔温度变化的结果 | 第25-28页 |
| 1.2.3 扫描电子显微镜(SEM)观察牙本质表面形态结果 | 第28-33页 |
| 1.2.4 SEM图像评分结果 | 第33-40页 |
| 1.3 讨论 | 第40-49页 |
| 1.3.1 牙本质过敏症的发生机制 | 第40-41页 |
| 1.3.2 牙本质过敏症离体牙模型的制备原理 | 第41页 |
| 1.3.3 激光和功率的选择 | 第41-42页 |
| 1.3.4 Nd:YAG激光对髓腔温度的结果讨论 | 第42-43页 |
| 1.3.5 半导体激光对髓腔温度的结果讨论 | 第43-44页 |
| 1.3.6 Nd:YAP激光对髓腔温度的结果讨论 | 第44-46页 |
| 1.3.7 Nd:YAG激光对牙本质小管封闭程度的结果讨论 | 第46页 |
| 1.3.8 半导体激光对牙本质小管封闭程度的结果讨论 | 第46-47页 |
| 1.3.9 Nd:YAP激光对牙本质小管封闭程度的结果讨论 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 发表论文情况说明 | 第56-57页 |
| 综述 激光在龋病应用中的研究进展 | 第57-67页 |
| 综述参考文献 | 第63-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 个人简历 | 第68页 |
