摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
符号表 | 第14-15页 |
第1章 绪论 | 第15-32页 |
1.1 选题背景及意义 | 第15-16页 |
1.2 氧化铝陶瓷成形技术概述 | 第16-21页 |
1.2.1 陶瓷传统制备技术 | 第16-17页 |
1.2.2 陶瓷间接成形技术 | 第17-20页 |
1.2.3 陶瓷激光直接成形技术 | 第20-21页 |
1.3 激光直接成形的成形缺陷概述 | 第21-26页 |
1.3.1 陶瓷材料的表面尺寸缺陷 | 第21-23页 |
1.3.2 陶瓷材料的孔隙缺陷 | 第23-25页 |
1.3.3 陶瓷材料的裂纹缺陷 | 第25-26页 |
1.4 激光直接成形的熔池温度监控技术 | 第26-30页 |
1.4.1 熔池温度监控的意义 | 第26-27页 |
1.4.2 熔池温度监测技术 | 第27-29页 |
1.4.3 熔池温度控制技术 | 第29-30页 |
1.5 主要研究内容 | 第30-32页 |
第2章 试验材料、设备及方法 | 第32-43页 |
2.1 试验材料 | 第32-33页 |
2.1.1 粉末材料 | 第32页 |
2.1.2 基板材料 | 第32-33页 |
2.2 试验设备 | 第33-40页 |
2.2.1 激光直接沉积系统 | 第33-37页 |
2.2.2 基于LabVIEW的熔池温度监控系统 | 第37-40页 |
2.3 试验分析方法 | 第40-42页 |
2.3.1 制样处理 | 第40页 |
2.3.2 图像处理与分析 | 第40-42页 |
2.4 本章小结 | 第42-43页 |
第3章 激光直接沉积的熔池温度特性 | 第43-49页 |
3.1 激光能量密度与熔池温度的关系 | 第43-45页 |
3.2 粉末质量密度与熔池温度的关系 | 第45页 |
3.3 关键工艺参数与熔池温度的关系 | 第45-48页 |
3.3.1 激光功率对熔池温度的影响 | 第45-46页 |
3.3.2 光斑直径对熔池温度的影响 | 第46页 |
3.3.3 扫描速度对熔池温度的影响 | 第46-47页 |
3.3.4 送粉速率对熔池温度的影响 | 第47-48页 |
3.4 本章小结 | 第48-49页 |
第4章 熔池温度与表面尺寸的相关性分析 | 第49-66页 |
4.1 单层成形件表面尺寸缺陷分析 | 第49-53页 |
4.1.1 单层成形件的表面尺寸分析 | 第49-50页 |
4.1.2 工艺参数对表面尺寸的影响 | 第50-53页 |
4.2 多层薄壁件表面尺寸分析 | 第53-58页 |
4.2.1 激光功率对表面尺寸的影响 | 第54-55页 |
4.2.2 送粉速率对表面尺寸的影响 | 第55-57页 |
4.2.3 扫描速度对表面尺寸的影响 | 第57-58页 |
4.3 熔池温度PID控制成形效果分析 | 第58-65页 |
4.3.1 基于LabVIEW的熔池温度PID控制方案设计 | 第58-62页 |
4.3.2 恒定激光功率下熔池温度与成形效果分析 | 第62-63页 |
4.3.3 温度PID控制下熔池温度与成形效果分析 | 第63-65页 |
4.4 本章小结 | 第65-66页 |
第5章 熔池温度与孔隙裂纹的相关性分析 | 第66-77页 |
5.1 熔池温度与孔隙缺陷的相关性分析 | 第66-72页 |
5.1.1 孔隙缺陷分析 | 第66-68页 |
5.1.2 送粉气体流量对孔隙缺陷的影响 | 第68-70页 |
5.1.3 熔池温度对孔隙缺陷的影响 | 第70-72页 |
5.2 熔池温度与裂纹缺陷的相关性分析 | 第72-75页 |
5.2.1 裂纹缺陷分析 | 第72-73页 |
5.2.2 熔池温度对裂纹缺陷的影响 | 第73-75页 |
5.3 本章小结 | 第75-77页 |
总结与展望 | 第77-79页 |
参考文献 | 第79-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
附录A 攻读学位期间发表的学术论文和参与科研项目 | 第86页 |